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J-GLOBAL ID：201202221764788960   整理番号：12A0610555

めっきの共析物 めっき膜中の水素の挙動

著者 (4件)： 福室直樹 (兵庫県大 大学院工学研究科) ,  八重真治 (兵庫県大 大学院工学研究科) ,  松田均 (兵庫県大 大学院工学研究科) ,  深井有 (東大 生産技研)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 63  号： 4  ページ： 222-226  発行年： 2012年04月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： めっきプロセスにおいては電気化学反応により水素の発生が起こるが,発生した水素はめっき液から大気へ放出されるだけでなく,めっき層中へも侵入する。この水素がめっき層の特性に種々の影響を与えることは経験的に良く知られていることであるが,系統的な解明はこれまで十分になされて来なかった。近年,この問題に対して研究する動きがあり,本稿においてもその一部を紹介した。Ni電析膜中への水素の共析と存在状態およびめっき膜の構造への水素の影響について示した。前者においては,めっき析出過程における水素の挙動(めっき液中への放出,めっき膜中への侵入,基板への侵入および透過)について示した。後者では,Cu電析膜の室温再結晶とRh電析膜の再結晶温度の低下の事例を示した。

シソーラス用語： *電気めっき ,  水素発生反応 ,  めっき皮膜 ,  *水素

分類 (1件)： 電気めっき  (WC08023B)

引用文献 (27件)：

• 1) Ch. J. Raub ; Plat. and Surf. Finish., 80, (9), 30 (1993). (訳: 大森 隆 ; 表面科学, 15, 630 (1994).)
• 2) 三浦雄一郎, 横田沙織, 深井 有, 渡辺 徹 ; 日本金属学会誌, 68, 552 (2004).
• 3) 深井 有, 廣井俊顕, 向坊長嗣, 清水康夫 ; 日本金属学会誌, 71, 388 (2007).
• 4) 向坊長嗣, 清水康夫, 深井 有, 廣井俊顕 ; 日本金属学会誌, 71, 809 (2007).
• 5) Y. Fukai, M. Mizutani, S. Yokota, M. Kanazawa, Y. Miura, T. Watanabe ; J. Alloys Compd., 356-357, 270 (2003).

タイトルに関連する用語 (5件)： めっき ,  共析 ,  めっき膜 ,  水素 ,  挙動