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J-GLOBAL ID：201202221826143847   整理番号：12A0029421

RFプラズマ支援パルスレーザー堆積法法によって調製されたZnO薄膜の局所的圧電特性

Local piezoelectric properties of ZnO thin films prepared by RF-plasma-assisted pulsed-laser deposition method

著者 (5件)： BDIKIN I K (Universidade de Aveiro, Aveiro, PRT) ,  GRACIO J (Universidade de Aveiro, Aveiro, PRT) ,  AYOUCHI R (Instituto Superior Tecnico, Lisboa, PRT) ,  SCHWARZ R (Instituto Superior Tecnico, Lisboa, PRT) ,  KHOLKIN A L (Universidade de Aveiro, Aveiro, PRT)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 21  号： 23  ページ： 235703.1-235703.6  発行年： 2010年06月11日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： RFプラズマ ,  支援 ,  パルスレーザー堆積法 ,  調製 ,  ZnO薄膜 ,  圧電特性