文献

J-GLOBAL ID：201202222127016305   整理番号：12A0930042

非接触大気圧低温プラズマによる水溶液中に誘起したフリーラジカル

Free radicals induced in aqueous solution by non-contact atmospheric-pressure cold plasma

著者 (5件)： TANI Atsushi (Dep. of Earth and Space Sci., Graduate School of Sci., Osaka Univ., Toyonaka, Osaka 560-0043, JPN) ,  ONO Yusuke (Center for Atomic and Molecular Technologies, Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN) ,  FUKUI Satoshi (Dep. of Earth and Space Sci., Graduate School of Sci., Osaka Univ., Toyonaka, Osaka 560-0043, JPN) ,  IKAWA Satoshi (Technol. Res. Inst. of Osaka Prefecture, Izumi, Osaka 594-1157, JPN) ,  KITANO Katsuhisa (Center for Atomic and Molecular Technologies, Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 100  号： 25  ページ： 254103-254103-3  発行年： 2012年06月18日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 液体中のプラズマ誘起化学処理を理解するために,異なる種類の非接触大気圧ヘリウムプラズマに曝露した水溶液中のフリーラジカルの形成を,スピン捕獲技術を用いて調べた。プラズマに中性酸素ガスを付加的に供給すると,ヒドロキシルラジカル(OH・)とスーパーオキシドアニオンラジカル(O₂^-・)付加物が観測された。特に,ヘリウムプラズマのアフターグローガス中の酸素流中にO₂^-・が主に誘起され得る。O₂^-・は大気圧プラズマによる液体の殺菌に非常に重要であるので,この種類のプラズマ処理は感染症制御のための医療に潜在的に応用できる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *大気プラズマ ,  ヘリウム ,  プラズマ曝露 ,  *ラジカル ,  ヒドロキシルラジカル ,  スーパーオキシドアニオンラジカル ,  殺菌 ,  水溶液 ,  *プラズマ応用
準シソーラス用語： *フリーラジカル

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 非接触 ,  大気圧低温プラズマ ,  水溶液 ,  誘起 ,  フリーラジカル