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J-GLOBAL ID：201202222761374010   整理番号：12A1737865

1Tビット/インチ²および25nmピッチビットパターン媒体を目標としたナノインプリントリソグラフィーのためのマスターモールドおよびワーキングレプリカ

Master mold and working replica fabrication for Nano-Imprinting Lithography for 1Tbit/inch2 and 25nm pitch Bit Patterned Media

著者 (9件)： KOBAYASHI Hideo (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  KISHIMOTO Shuji (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  SUZUKI Kouta (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  IYAMA Hiromasa (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  NAKATSUKA Sakae (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  TANIGUCHI Kazutake (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  KAGATSUME Takaeshi (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  SATO Takashi (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  WATANABE Tsuyoshi (HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8441  ページ： 84411N.1-84411N.10  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2.5インチハードディスクドライブ(HDD)媒体での1Tビット/インチ²面密度のビットパターン媒体(BPM)のビットサイズは25nmトラックピッチで16nmであり,すべての媒体メーカーおよびHDDメーカーの最初の実施目標である。そして大量生産のために,1時間当たり1000媒体以上の高スループットが必要である。そのため,ナノインプリントリソグラフィー(NIL)はモールドと同様に欠くことのできない方法である。本研究ではEBリソグラフィーによる25nmピッチのマスターモールドとNILによるワーキングレプリカの製作を成功できた。EBLによるマスターモールド製作ではEBレジストであるZEPレジストについての新しいパターン技術を開発し,採用した。そしてZEP孔の連結孔欠陥を除去することに成功した。またエッチング時間を短縮するために新しいCrマスクとCrエッチングレシピ-を実用化した。NILによるワーキングレプリカの製作ではインプリントレジストとして,新しいスカムのないレシピ-を開発し,採用した。新しいレジストもピラーの高さおよび直径の低減を防止するために使用した。これは通常のドライエッチング耐性の少ないレジストに対してスカムをなくすためのフッ素混合ガスを採用したことによる。

シソーラス用語： 電子ビームリソグラフィー ,  回路パターン形成 ,  *押付成形 ,  ピッチ【機械要素】 ,  *磁気ディスク ,  レプリカ ,  *ドライエッチング ,  駆動機構 ,  *熱磁気記録 ,  記録密度 ,  大量生産 ,  スループット ,  プロセス開発 ,  脂肪族フッ素化合物 ,  密度 ,  マスク ,  脂肪族アルコール
準シソーラス用語： ナノインプリントリソグラフィー ,  ビットパターン媒体 ,  HDD ,  HAMR ,  フルオロカーボン ,  面密度 ,  ハードマスク

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： イソプロピルアルコール

タイトルに関連する用語 (9件)： ビット ,  インチ ,  ピッチ ,  ビットパターン媒体 ,  目標 ,  ナノインプリントリソグラフィー ,  マスター ,  モールド ,  レプリカ