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J-GLOBAL ID：201202222840493172   整理番号：12A1712001

有機架橋基を含む有機けい酸塩低k材料と酸素プラズマの相互作用の反応機構

Reaction mechanisms of oxygen plasma interaction with organosilicate low-k materials containing organic crosslinking groups

著者 (2件)： CHAUDHARI Mrunalkumar (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of North Texas, Denton, Texas 76210) ,  DU Jincheng (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of North Texas, Denton, Texas 76210)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 30  号： 6  ページ： 061302-061302-7  発行年： 2012年11月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マイクロエレクトロニック加工中に有機けい酸塩ガラス(OSG)のような低誘電定数(k)材料を統合するには,これらの材料のプラズマエッチングおよび灰化中のプラズマ/OSG相互作用のよりよい理解が要求される。この理解に基づいてより高い放射線耐性そしてより優れた機械的挙動をもつ低k材料を開発し,そして半導体デバイスの連続小型化を保証するために最適化プラズマ処理条件を導入することができる。OSGに有機架橋(例えば,-CH₂-)を導入することが,機械的性質を改善するための有効な手段であることを示したが,プラズマ相互作用に対するそれらの効果はまだ完全には理解されていない。本論文では,ab initioに基づく分子動力学シミュレーションを採用して,OSG材料中の炭素架橋けい酸塩ネットワークに対する酸素プラズマの効果を調べた。結果は,Si-CH₂-Siネットワークにおける有機架橋が原子ラジカルとのより低いエネルギー反応経路をもたらし,それがS-CH₃結合の代わりにSi-CH₂-Siリンクの破壊,したがって炭素除去の減少を生じさせることを示した。有機架橋基の統合は,このようにOSGの酸素プラズマ損傷への抵抗性を改善することができ,そして,より優れた機械的性質とともに,より強い低k誘電体膜の設計に導くことができる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *分子動力学 ,  量子論 ,  ab initio MO法 ,  *計算機シミュレーション ,  ab initio法 ,  誘電体 ,  誘電率 ,  プラズマ ,  酸素 ,  *誘電体薄膜 ,  *プラズマエッチング ,  イオンエッチング ,  ケイ酸塩ガラス ,  有機ケイ素化合物 ,  架橋【高分子】
準シソーラス用語： ab initio分子動力学 ,  酸素プラズマ ,  低k誘電体 ,  分子動力学シミュレーション

分類 (2件)： 固体-プラズマ相互作用  (BJ02033W) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 架橋基 ,  けい酸塩 ,  酸素プラズマ ,  相互作用