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J-GLOBAL ID：201202227482253913   整理番号：12A1644630

混合溶液を用いた減圧沸騰噴霧によるCVD法の提案(直径200mm以上の大面積ウエハに供給可能な噴射弁の製作と評価)

著者 (5件)： 大嶋元啓 (福井工大) ,  松下雅哉 (同志社大 大学院) ,  宮本英典 (同志社大 大学院) ,  千田二郎 (同志社大) ,  石田耕三 (堀場製作所)
資料名： 微粒化  (Journal of the ILASS-Japan)
巻： 21  号： 73  ページ： 69-75  発行年： 2012年07月31日 
JST資料番号： L2710A  ISSN： 1341-6022  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 直径が200mm以上の大面積ウエハに成膜可能なスリットノズル噴射弁の製作とその評価を目的として,シングルスリットノズル噴射弁においてスリット角度が噴霧形状,蒸発特性に及ぼす影響について背景光撮影,LIF法とMie法散乱光同時撮影により調べ,スリット角度を評価した。その結果を踏まえ,大面積ウエハに対応可能なダブルスリットノズル噴射弁を製作し,背景光撮影画像よりスリット間角度を評価した。シングルスリットノズル噴射弁において噴射期間中ではスリット角度は噴霧の拡がりに大きく依存し,75度では液膜が認められ,180度では噴霧は広域に分散した。ダブルスリットノズルのスリット間角度が90度では,噴霧は広域に分散せず,蒸発特性が悪く,150度以上では噴霧は,チャンバ壁面に沿う形で形成された。

シソーラス用語： *噴霧 ,  混合液体 ,  *化学蒸着 ,  *ウエハ【IC】 ,  *ノズル ,  高速度カメラ ,  *インゼクタ ,  角度 ,  Mie散乱 ,  散乱光 ,  液膜
準シソーラス用語： *スリットノズル ,  *減圧沸騰噴霧

分類 (2件)： ポンプ,各種揚水装置  (QD05030P) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (12件)：

• 米原隆夫. 0.1μm時代の高品質SOIウエハ技術. 応用物理学会誌. 2002, 71, 9, 1102-1111
• KRUMDIEK, S. Growth Rate and Morphology for Ceramic Films by Pulsed-MOCVD. Surface and Coating Technology. 2001, 141, 7-14
• PORPORATI, A. Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Ta_2O_5 Films. Journal of The European Ceramic Society. 2003, 23, 247-251
• BOER, H. Liquid-Injection System Based on Mass Flow Controllers. Solid State Tech. 1996, 1996, 3, 149-150
• KAWAHARAMURA, T. Fabrication of ZnO Thin Films by Mist-CVD, H3. 25^<th> Electronic Material Symposium, 2006. 2006, 208-209

タイトルに関連する用語 (10件)： 混合溶液 ,  減圧沸騰噴霧 ,  CVD法 ,  提案 ,  直径 ,  大面積 ,  ウエハ ,  噴射弁 ,  製作 ,  評価