文献

J-GLOBAL ID：201202234793583956   整理番号：12A1029914

ナノテク開発を支える計測・分析・解析技術〔個別企業の製品開発〕アドバンテストの露光ソリューション

著者 (1件)： 黒川正樹 (アドバンテスト)
資料名： 工業材料  (Engineering Materials)
巻： 60  号： 8  ページ： 58-61  発行年： 2012年08月01日 
JST資料番号： F0172A  ISSN： 0452-2834  CODEN： KZAIA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電子ビーム(EB)露光装置は,電子線を収束・位置制御し,露光対象基板へ照射を行うことにより目的のパターンを得る装置である。その微細パターン生成能力を活かし,広く応用されており,ナノインプリント原版の作製も期待されている。以下について述べた。1)アドバンテストのEB露光装置の特徴(各種露光対象基板への対応,キャラクタ・プロジェクション露光技術,セルフクリーニング技術,その他の技術),2)アドバンテストのEB露光装置。

シソーラス用語： ナノテクノロジー ,  技術開発 ,  電子ビームリソグラフィー ,  *装置 ,  *電子照射 ,  パターン形成 ,  マスク ,  押付成形 ,  微細加工 ,  製品開発 ,  露光 ,  光学系
準シソーラス用語： CP露光 ,  ナノインプリント ,  *電子ビーム露光装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (8件)： ナノテク ,  開発 ,  計測 ,  分析 ,  解析 ,  企業 ,  露光 ,  ソリューション