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J-GLOBAL ID：201202236246656623   整理番号：12A1457891

13.5nm Schwarzschild対物レンズとレーザ生成プラズマ源を用いて作製したナノパターン

Nanoscale patterns made by using a 13.5-nm Schwarzschild objective and a laser produced plasma source

著者 (4件)： WANG Zhanshan (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  WANG Xin (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  MU Baozhong (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  BAI Yuhong (Changchun Inst. Optics, Fine Mechanics and Physics, Changchun, CHN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8430  ページ： 843012.1-843012.12  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 弗化リチウム(LiF)結晶はnm分解能の極端紫外及び軟X線検出器の有望な候補材料である。極端紫外検出器にLiFを,投影光学系に13.5nmで動作するSchwarzschild対物レンズ(SO)を用いて,4.2μm,1.2μm,800nmの線幅のメッシュ画像と直径が約1.5μmのピンホールパターンを投影撮像モードと直接描画モードで得た。SOの表面にはMo/Si薄膜を蒸着し,損傷と汚染を防いだ。SOの設計空間分解能は5500lp/mmで,二枚の鏡の表面形状を考慮すると600lm/mmに減少した。

シソーラス用語： *レーザプラズマ ,  *パターン形成 ,  フッ化リチウム ,  多層膜 ,  モリブデン ,  ケイ素 ,  *対物レンズ ,  空間分解能 ,  フォトリソグラフィー ,  ピンホール ,  電子ビームリソグラフィー
準シソーラス用語： *Schwarzschild対物レンズ ,  *ナノパターン形成 ,  EUVリソグラフィー ,  直接描画

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 対物レンズ ,  レーザ生成プラズマ ,  作製 ,  ナノパターン