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J-GLOBAL ID：201202238391386955   整理番号：12A0121645

相互接続へ応用するプラズマ増強原子層蒸着したルテニウム膜のスケーラビリティ

Scalability of plasma enhanced atomic layer deposited ruthenium films for interconnect applications

著者 (16件)： SWERTS J. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  ARMINI S. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  CARBONELL L. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  DELABIE A. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  FRANQUET A. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  MERTENS S. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  POPOVICI M. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  SCHAEKERS M. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  WITTERS T. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  TOEKEI Z. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  BEYER G. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  VAN ELSHOCHT S. (IMEC, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  GRAVEY V. (Applied Materials Belgium, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  COCKBURN A. (Applied Materials Belgium, Kapeldreef 75, 3001- Leuven, BEL) ,  SHAH K. (Applied Materials, Bowers Avenue, California) ,  AUBUCHON J. (Applied Materials, Bowers Avenue, California)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 30  号： 1  ページ： 01A103  発行年： 2012年01月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ru薄膜をプラズマ増強原子層蒸着により,メチルシクロペンタジエニルピロリルルテニウム(MeCpPy)RuとN₂/NH₃プラズマを使って蒸着した。様々な厚みの窒化チタン,あるいは窒化タンタル基板上の成長特性を調べた。SiO₂上では,大きい潜伏周期が観測された。これは~0.8nmの金属窒化物層を使って分解できる。金属窒化物超薄層上へ蒸着したRu層の成長特性は,金属窒化物層が完全に閉じていないと言う事実にも関わらず,厚い金属窒化物基板上のものと似ている。スケールしたRu/金属窒化物積層を最小25nm幅までの狭い線へ蒸着した。金属窒化物を薄くしても,それによってこの狭い線のRu層の共形性は影響されない。最も薄い線では,側壁上に蒸着したRuは,溝の底と比べたとき,より粒状の構造を見せる。これは蒸着過程中のプラズマ方向性が原因である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *相互接続 ,  *ルテニウム ,  化学蒸着 ,  金属薄膜 ,  蒸着膜 ,  薄膜成長 ,  潜伏期 ,  窒化物 ,  *プラズマCVD
準シソーラス用語： *原子層蒸着 ,  潜伏期間

分類 (1件)： 金属の結晶成長  (BK13030M)

タイトルに関連する用語 (7件)： 相互接続 ,  応用 ,  プラズマ ,  増強 ,  原子層蒸着 ,  ルテニウム ,  スケーラビリティ