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J-GLOBAL ID：201202241692244219   整理番号：12A0591379

原子ステップ基板上への酸化物エピタキシャル薄膜のPLD室温成長とナノ構造構築

Room-Temperature PLD Epitaxial Growth and Nanostructural Construction of Oxide Thin Films on Atomically Stepped Substrates

著者 (7件)： 山内涼輔 (東京工大) ,  TAN Geng (東京工大) ,  塩尻大士 (東京工大) ,  小山浩司 (並木精密宝石) ,  金子智 (神奈川県産技セ) ,  松田晃史 (東京工大) ,  吉本護 (東京工大)
資料名： 電気学会光・量子デバイス研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： OQD-12  号： 1-11  ページ： 31-35  発行年： 2012年03月09日 
JST資料番号： Z0922A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： PLD法を用いてステップサファイア基板上へ薄膜堆積とRTAによるNiOとLi:NiOエピタキシャル薄膜上にナノ溝形成した。RTAによる溝形成を1分で形成できた。RTAでは,急速な昇温・冷却が可能なため薄膜のナノ溝形成が短時間ででき,溝間の薄膜構成原子の拡散やナノ溝結合を抑制できた。その結果,従来の電気炉アニールの2倍以上の深さで溝形成ができた。また,ナノ溝を構成する結晶粒を観察することでステップサファイア基板の対象性が隣接テラス同士で異なることを見出した。ナノ溝のLi添加で,約60nmの深さが得られ構造色も発現した。TRAにより1分のアニールでもNiOエピタクシャル薄膜の結晶性が向上した。Li:NiO薄膜では,LiNiO₂と考えられる相からの回折ピークが得られた。

シソーラス用語： *レーザ蒸着 ,  パルスレーザ照射 ,  *エピタクシー ,  *酸化ニッケル ,  自己組織化 ,  RTA【熱処理】 ,  基板 ,  室温 ,  *ナノ構造 ,  *溝加工 ,  制御 ,  パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： パルスレーザ堆積 ,  ステップ基板 ,  サイズ制御

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (8件)：

• (1) S. Akiba, A. Matsuda, H. Isa, M. Kasahara, S. Sato, T. Watanabe, W. Hara, and M. Yoshimoto: "Formation of a nanogroove-striped NiO surface using atomic steps" Nanotechnology 17, 4053 (2006)
• (2) A. Matsuda, S. Akiba, M. Kasahara, T. Watanabe, Y. Akita, and M. Yoshimoto: "Anisotropic electric conduction derived from self-organized nanogroove array on Li-doped NiO epitaxial film" Appl. Phys. Lett. 90, 182107 (2007)
• (3) R. Yamauchi, K. Kobayashi, M. Hosaka, T. Suzuki, K. Koyama, A. Matsuda, H. Arai, Y.Kato, M. Mitsuhashi, S. Kaneko, and M. Yoshimoto: "Fabrication of Ni/Al203/Ni Heteroepitaxial Junction by Post Hydrogen Reduction of NiO/Al₂O₃/NiO Tri-layered Epitaxial Thin Film" Jpn. J. Appl. Phys. 50, 098004 (2011)
• (4) M. Kawasaki, K. Takahashi, T. Maeda, R. Tsuchiya, M. Shinohara, O. Ishiyama, T. Yonezawa, M. Yoshimoto, and H. Koinuma: "Atomic Control of the SrTiO₃ Crystal Surface" Science 266, 1540 (1994)
• (5) M. Yoshimoto, T. Maeda, T. Ohnishi, H. Koinuma, O. Ishiyama, M. Shinohara, M. Kubo, R. Miura, and A. Miyamoto: "Atomic-scale formation of ultrasmooth surfaces on sapphire substrates for high-quality thin-film fabrication" Appl. Phys. Lett. 67, 2615 (1995)

タイトルに関連する用語 (8件)： 原子 ,  酸化物 ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  PLD ,  室温 ,  成長 ,  構造構築