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J-GLOBAL ID：201202241754066711   整理番号：12A0588446

人工視覚用高効率刺激電極のIrOxスパッタリング成膜条件最適化

Optimization of IrOx sputtering parameter for High Efficiency Stimulus Electrode Employed in Retinal Prosthesis Device

著者 (7件)： PAN Yi-Li (NAIST) ,  NODA Toshihiko (NAIST) ,  SASAGAWA Kiyotaka (NAIST) ,  TOKUDA Takashi (NAIST) ,  KANDA Hiroyuki (Osaka Univ.) ,  FUJIKADO Takashi (Osaka Univ.) ,  OHTA Jun (NAIST)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 59th  ページ： ROMBUNNO.18A-GP5-15  発行年： 2012年02月29日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： スパッタリング ,...
準シソーラス用語： 成膜 ,...

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分類 (2件)： 生体代行装置  (EL04000N) ,  電極過程  (CB07040U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 人工視覚 ,  高効率 ,  刺激電極 ,  スパッタリング ,  成膜条件 ,  最適化