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J-GLOBAL ID：201202244734260251   整理番号：12A0863261

VUV照射を応用した,ギャップ内側におけるPSZ-SOGフィルムの湿式エッチング抵抗の促進

Application of VUV irradiation to promote the wet etch resistance of PSZ-SOG film inside the gap

著者 (6件)： CHEN Chia-Ming (Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN) ,  YEH Ming-Hsin (Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN) ,  CHIEN Hung-Ju (Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN) ,  FAN Jhen-Jhih (Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN) ,  YAN Chin-Rung (Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN) ,  MATSUO Hiroshi (Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN)
資料名： Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)
巻： 87  号： 10  ページ： 1927-1931  発行年： 2010年10月 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (9件)： VUV ,  応用 ,  ギャップ ,  内側 ,  PSZ ,  SOG ,  フィルム ,  湿式エッチング ,  促進