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J-GLOBAL ID：201202246115822957   整理番号：12A1612626

分子前駆体法を用いたp-型Cu₂O透明薄膜の化学的製造

Chemical fabrication of p-type Cu₂O transparent thin film using molecular precursor method

著者 (7件)： NAGAI Hiroki (Res. Inst. of Sci. and Technol., Kogakuin Univ., 2665-1 Nakano, Hachioji, Tokyo 192-0015, JPN) ,  SUZUKI Tatsuya (Dep. of Applied Chemistry and Chemical Engineering, Graduate School of Kogakuin Univ., 2665-1 Nakano, Hachioji ...) ,  HARA Hiroki (Res. Inst. of Sci. and Technol., Kogakuin Univ., 2665-1 Nakano, Hachioji, Tokyo 192-0015, JPN) ,  MOCHIZUKI Chihiro (Res. Inst. of Sci. and Technol., Kogakuin Univ., 2665-1 Nakano, Hachioji, Tokyo 192-0015, JPN) ,  TAKANO Ichiro (Res. Inst. of Sci. and Technol., Kogakuin Univ., 2665-1 Nakano, Hachioji, Tokyo 192-0015, JPN) ,  HONDA Tohru (Res. Inst. of Sci. and Technol., Kogakuin Univ., 2665-1 Nakano, Hachioji, Tokyo 192-0015, JPN) ,  SATO Mitsunobu (Res. Inst. of Sci. and Technol., Kogakuin Univ., 2665-1 Nakano, Hachioji, Tokyo 192-0015, JPN)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 137  号： 1  ページ： 252-257  発行年： 2012年11月15日 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無Naガラス基板上にスピンコートした分子前駆体膜の熱反応を含む溶液ベース処理によって,50nm厚の透明p-型Cu₂O薄膜を成功裏に製造した。エチレンジアミン-N,N,N′,N′-テトラ酢酸の分離Cu²⁺錯体とエタノール中のジブチルアミンとの反応により,この前駆体溶液を調製した。この前駆体を450°Cで10分間,1.0 L min^-1の流速でのArガス中で熱処理した結果のCu₂O薄膜を,X線回折でキャラクタライズし,8(2) nmの微結晶格子で,a=0.4265(2) nmの精密な立方格子セルパラメータをもつことを示した。Cu₂O膜のO 1sおよびCu 2p_3/2準位に帰属できるX線光電子分光ピークが,それぞれ,532.6 eVおよび932.4 eVに見出された。約200nmの析出Cu₂O粒子の平均粒径が,電界放射型走査電子顕微鏡法で観測された。このCu₂O透明薄膜の吸収スペクトルから,直接遷移半導体を仮定して計算した光学バンド末端は2.3 eVである。薄膜のHall効果測定は,単一相Cu₂O薄膜は典型的なp-型半導体であり,周囲温度で,1.7 × 10¹⁶ cm^-3の空孔濃度および4.8 cm² V^-1 s^-1の空孔移動度がある。Arrheniusプロットから計算される原子価バンドからアクセプタ準位への活性化エネルギーは0.34 eVである。無Naガラス基板上のこの薄膜の接着強度も,引っかき試験で2.0 Nの臨界加重(Lc1)として定量された。ここに述べた方法は,湿式法によるp-型Cu₂O透明薄膜の製造とキャラクタリゼーションに関する最初の例である。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *前駆体 ,  *酸化第一銅 ,  *薄膜 ,  熱処理 ,  X線回折 ,  微結晶 ,  X線光電子分光法 ,  粒径 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子吸収スペクトル ,  Hall効果 ,  *P型半導体 ,  空格子点 ,  図化 ,  活性化エネルギー ,  接着強さ ,  引かき試験 ,  湿式法 ,  脂肪族アミン ,  脂肪族カルボン酸 ,  アミノカルボン酸 ,  ジアミン
準シソーラス用語： *亜酸化銅 ,  X線光電子分光 ,  電界放射型走査電子顕微鏡 ,  空孔【点欠陥】 ,  Arrheniusプロット ,  接着強度

分類 (1件)： 物理化学一般その他  (CB01030T)

物質索引 (2件)： エチレンジアミンテトラ酢酸 ,  ジブチルアミン

タイトルに関連する用語 (5件)： 分子 ,  前駆体 ,  Cu2O ,  薄膜 ,  化学