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J-GLOBAL ID：201202247330000999   整理番号：12A1174906

光ナノインプリント法による光ファイバ端面への反射防止サブ波長構造の製作

Fabrication of Antireflective Subwavelength-Grating Structures on Optical Fiber End Faces Using UV Nanoimprinting Technique

著者 (3件)： 金森義明 (東北大 大学院工学研究科) ,  大河内昌章 (東北大 工) ,  羽根一博 (東北大 大学院工学研究科)
資料名： 日本機械学会論文集 C編(Web)  (Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series C (Web))
巻： 78  号： 790  ページ： 2322-2330 (WEB ONLY)  発行年： 2012年 
JST資料番号： U0184A  ISSN： 1884-8354  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 光ナノインプリント法により,石英系光ファイバの端面に反射防止サブ波長構造(SWG)を製作する技術を開発した。また,光ファイバ端面用の光ナノインプリント装置を開発した。光ファイバ側から紫外(UV)光を導光するためモールドが金属のような不透明材質であっても光ナノインプリントが可能であり,コア付近のUV硬化樹脂が選択的に固まる。製作したSWGの周期は270nmであり,使用したモールドの格子周期と一致した。製作したSWGの反射および透過スペクトルを測定した結果,光通信Cバンドの波長において反射率は低減し,透過率は向上することを確認した。(著者抄録)

シソーラス用語： パターン転写 ,  パターン形成 ,  *光ファイバ ,  面 ,  防止 ,  *周期構造 ,  光通信
準シソーラス用語： 光ナノインプリント ,  端面 ,  *反射防止 ,  *サブ波長構造

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光ナノインプリント ,  光ファイバ ,  反射防止 ,  サブ波長構造 ,  製作