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J-GLOBAL ID：201202251733327472   整理番号：12A1219629

数値的に制御された局部ウェットエッチングによるミリメートル厚さの楕円面鏡基板の非接触面修正

Noncontact Figuring of Millimeter-thick Elliptical Mirror Substrate by Numerically Controlled Local Wet Etching

著者 (6件)： NAGANO Mikinori (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  YAMAGA Fumiya (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  YAMAZAKI Dai (Japan Atomic Energy Agency, Tokai, JPN) ,  MARUYAMA Ryuji (Japan Atomic Energy Agency, Tokai, JPN) ,  SOYAMA Kazuhiko (Japan Atomic Energy Agency, Tokai, JPN) ,  YAMAMURA Kazuya (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 516  ページ： 361-366  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高強度を持つ中性子ビームを集束するため,高精度形状非球面集束スーパーミラーを用いた複数の非球面スーパーミラーデバイスの開発を意図した。鏡の厚さが他の鏡の反射域を陰にするので,入射中性子ビームの吸収損失を最小にするため,ミリメートル厚さの薄い鏡を必要とする。精密なミリメートル厚さの楕円スーパーミラー製作の新しいプロセスを開発した。このプロセスは,数値制御局部ウエットエッチング(NC-LWE)技術による非接触面修正,約7kPa未満の研磨圧による低圧研磨による形状精度の退化のない表面粗さの最小化と,膜応力を補正するための鏡基板両面のNiC/Ti多層のイオンビームスパッター析出からなる。NC-LWE面修正と低圧研磨からなる組合せ製作プロセスを用いて,1mmの厚さの平楕円中性子集束スーパーミラーを製作し,0.2nm rms未満の表面粗さで,0.35μm p-vの形状誤差を得ることに成功した。

シソーラス用語： *エッチング ,  *楕円面鏡 ,  反射鏡 ,  表面粗さ ,  チタン ,  多層膜 ,  イオンビームスパッタリング ,  誤差 ,  形状精度 ,  研磨 ,  低圧 ,  中性子ビーム ,  数値制御 ,  *精密加工 ,  *石英ガラス ,  ビーム集束 ,  *非球面鏡 ,  ニッケル化合物 ,  炭化物 ,  膜応力 ,  *ウェットエッチング
準シソーラス用語： スーパーミラー ,  形状誤差 ,  炭化ニッケル ,  低圧研磨 ,  非接触

分類 (3件)： ガラスの製造  (YC02020O) ,  加速器一般及び理論  (BE02010M) ,  その他の光学機器  (QF05060C)

タイトルに関連する用語 (5件)： 数値 ,  ウェットエッチング ,  厚さ ,  楕円面鏡 ,  接触面