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J-GLOBAL ID：201202254615565805   整理番号：12A1727324

原子間力顕微鏡を用いた高速度波長可変超音波力制御ナノ加工リソフラフィー

High-rate tunable ultrasonic force regulated nanomachining lithography with an atomic force microscope

著者 (2件)： ZHANG Li (North Carolina State Univ., NC, USA) ,  DONG Jingyan (North Carolina State Univ., NC, USA)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 23  号： 8  ページ： 085303,1-9  発行年： 2012年03月02日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子間力顕微鏡(AFM)を用いた高速度波長可変超音波振動支援ナノ加工リソグラフィー法を開発した。リソグラフィー速度およびナノ加工過程の制御可能性を増大させるために,制御されたチップ-試料振動を導入した。試料の超音波z振動は,非常に小さな設定値力レベルで信頼性のある作製を可能にし,作製におけるパターンの深さを調節するために使用された。試料の高周波数面内円振動により1回通過で加工できるパターンの大きさの直接制御ができ,それぞれの小さな切削サイクルにおける切削負荷を分布させる能力を与えた。面内振動周波数および1回転当たりの送りを選択することにより,このアプローチは各加工サイクルへのチップ-試料の関与を効果的に低減でき,リソグラフィー速度および材料除去速度を有意に増大させた。1秒当たり数十ミクロンのリソグラフィー速度を達成できた。PMMA薄膜上で加工されるパターンは反応性イオンエッチング過程によりシリコン基板に輸送される。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *原子間力顕微鏡 ,  *可変性 ,  *超音波振動 ,  パターン形成 ,  深さ ,  ポリメタクリル酸メチル ,  高分子薄膜 ,  *RIE【エッチング】 ,  ケイ素 ,  基板
準シソーラス用語： *ナノ加工リソグラフィ ,  *波長可変 ,  PMMA

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 原子間力顕微鏡 ,  高速度 ,  波長可変 ,  超音波 ,  力制御 ,  ナノ加工