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J-GLOBAL ID:201202254615998450   整理番号:12A0435386

レーザアブレーション及び脱溶媒ネブライザー二重試料導入系を備えたマルチコレクター誘導結合プラズマ質量分析計を用いたジルコン中のHf同位体比の決定

Determination of Hf isotope ratios in zircon using multiple collector-inductively coupled plasma mass spectrometry equipped with laser ablation and desolvating nebulizer dual sample introduction system
著者 (3件):
資料名:
巻: 46  号:ページ: 1-12  発行年: 2012年 
JST資料番号: S0495A  ISSN: 0016-7002  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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193nm紫外線エキシマレーザアブレーション(193ExLA)マルチコレクター誘導結合プラズマ質量分析計(MC-ICPMS)によるジルコン結晶中の176Hf/177Hf同位体比のin situでの精密決定に対する分析プロトコルを提唱する。特に,193ExLA-MC-ICPMS及びARIDUS II脱溶媒ネブライザーを備えた同時レーザ及びドライ溶液エアロゾル二重試料導入系(DSI)を用いた。DSI-MC-ICPMSはジルコン結晶からのレーザエアロゾルを分析する一方,ARIDUS IIから脱イオン水が補給される。Hf標準溶液はARIDUS IIを用いてレーザのスイッチを切って分析される。この手法はレーザ及び溶液エアロゾルに対して同じ分析条件を提供し,プラズマ条件の変化を最小限にする。したがって,標準溶液を用いた装置の質量バイアス補正が正確に得られる。176Hf/177に対する装置の質量バイアスは179Hf/177Hfの測定により補正される。176Hfに対する176Yb干渉補正は,Ybに対する173Yb/171Yb内部質量バイアス補正とともに176Yb/173Yb比を用いて行われる。同様に,176Luの干渉は173Yb/171Ybまたは179Hf/177Hf外部質量バイアス補正と176Lu/175Luをともに用いて調整される。これらの補正ファクタは標準溶液を用いて慎重に決定される。補正ファクタはルーチンのモニタリングで観測されたように3カ月にわたり安定していた。標準ジルコンの91500,TEMORA2,Plesovice,FC-1を,レーザフルエンスが20J/cm2及び反復率が5~10Hzで193ExLAを用いて分析した。このアブレーション条件により,数分後に直径40μm及び深さ40μmのクレータが生じた。JMC475溶液を用いた標準ブラケットをレーザ分析5スポット毎に適用し,装置の質量バイアスを補正した。その結果得られた176Hf/177Hf同位体比は全て,TIMS及び他のLA-MC-ICPMSにより報告された同位体比と非常に良く一致した。(翻訳著者抄録)
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分類 (3件):
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同位体地質学  ,  鉱物・岩石・鉱石の物理分析  ,  その他の同位体地球化学 
引用文献 (40件):

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