文献
J-GLOBAL ID:201202256928981233   整理番号:12A0460391

迅速熱サイクル焼なましをした場合,しない場合の,原子層析出法で作製した酸化アルミニウムのp-Si上基板との界面近くのエネルギー帯図の容量-電圧測定による作成

Energy Band Diagram near the Interface of Aluminum Oxide on p-Si Fabricated by Atomic Layer Deposition without/with Rapid Thermal Cycle Annealing Determined by Capacitance-Voltage Measurements
著者 (12件):
資料名:
巻: 10  ページ: 22-28 (J-STAGE)  発行年: 2012年 
JST資料番号: U0016A  ISSN: 1348-0391  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
原子層析出法(ALD)で作製した酸化アルミニウム(Al2O3)膜で不動態化したp型ケイ素を用い,迅速熱サイクル焼なまし(RTCA)の前と後に容量-電圧(C-V)測定を行って,固定電荷(Qf)及び界面状態密度(Dit)を評価した。C-V測定から,表面電位(VS),蓄積幅,及び減衰幅を求め,その結果,エネルギー帯図が得られた。約100mVの障壁高さは,p型Si基板との界面の近くのAl2O3層における固定負電荷によって誘起されたことがわかった。RTCAにより作られたAl2O3不動態化層の電界効果は,ゲート電圧(VG)に依存せず強いままであった。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
13-15族化合物を含まない半導体-半導体接合  ,  酸化物薄膜 
引用文献 (32件):
もっと見る

前のページに戻る