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J-GLOBAL ID：201202259478796642   整理番号：12A0165399

無線周波数基板バイアスによる誘導放電における結合効果

Coupling effects in inductive discharges with radio frequency substrate biasing

著者 (3件)： SCHULZE J. (Inst. for Plasma and Atomic Physics, Ruhr-University Bochum, Bochum, DEU) ,  SCHUENGEL E. (Inst. for Plasma and Atomic Physics, Ruhr-University Bochum, Bochum, DEU) ,  CZARNETZKI U. (Inst. for Plasma and Atomic Physics, Ruhr-University Bochum, Bochum, DEU)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 100  号： 2  ページ： 024102  発行年： 2012年01月09日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 13.56MHzで容量性基板バイアス(CCP)した,ネオン中27.12MHzで動作する低圧誘導結合プラズマ(ICP)を位相分解発光分光法,電圧及び電流測定により調べた。以下に示す三種類の結合機構がイオンのエネルギーとフラックスの独立した制御を潜在的に制限することが分かった:(i)基板バイアスに起因する鞘加熱は高いICP/CCPパワー比でも電子動力学に影響を与える。CCPパワーが一定のとき,(ii)基板鞘電圧と,(iii)RF電流のプラズマ直列共振の周波数と振幅はICPパワーの影響を受ける。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： バイアス ,  *放電 ,  効果 ,  ネオン ,  *誘導結合プラズマ ,  発光分光法
準シソーラス用語： 基板バイアス ,  結合効果 ,  *誘導放電 ,  *容量結合プラズマ

分類 (1件)： 気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 無線周波数 ,  基板バイアス ,  誘導 ,  放電