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J-GLOBAL ID：201202261167591626   整理番号：12A0235240

UVマスク検査用EBeyeMの性能

Performance of EBeyeM for EUV Mask Inspection

著者 (18件)： YAMAGUCHI Shinji (Toshiba Corp., Kawasaki-shi, JPN) ,  NAKA Masato (Toshiba Corp., Kawasaki-shi, JPN) ,  HIRANO Takashi (Toshiba Corp., Kawasaki-shi, JPN) ,  ITOH Masamitsu (Toshiba Corp., Kawasaki-shi, JPN) ,  KADOWAKI Motoki (Toshiba Corp., Yokkaichi-shi, JPN) ,  KOIKE Tooru (Toshiba Corp., Yokkaichi-shi, JPN) ,  YAMAZAKI Yuuichiro (Toshiba Corp., Yokkaichi-shi, JPN) ,  TERAO Kenji (Ebara Corp., Fujisawa-shi, JPN) ,  HATAKEYAMA Masahiro (Ebara Corp., Fujisawa-shi, JPN) ,  WATANABE Kenji (Ebara Corp., Fujisawa-shi, JPN) ,  SOBUKAWA Hiroshi (Ebara Corp., Fujisawa-shi, JPN) ,  MURAKAMI Takeshi (Ebara Corp., Fujisawa-shi, JPN) ,  KARIMATA Tsutomu (Ebara Corp., Fujisawa-shi, JPN) ,  TSUKAMOTO Kiwamu (Ebara Corp., Fujisawa-shi, JPN) ,  HAYASHI Takehide (Ebara Corp., Fujisawa-shi, JPN) ,  TAJIMA Ryo (Ebara Corp., Fujisawa-shi, JPN) ,  KIMURA Norio (Ebara Corp., Fujisawa-shi, JPN) ,  HAYASHI Naoyo (Dai Nippon Printing Co., Ltd, Fujimino-shi, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8166  号： Pt.2  ページ： 81662F.1-81662F.8  発行年： 2011年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 従来,マスク欠陥検査は,主に光学検査装置により行われていたが,より高い解像度に加えて高いスループットも実現するため,積分(TDI)センサによって検査イメージを獲得する射影電子顕微鏡(PEM)時間遅延及びイメージ取得法を使うEB欠陥検査装置EBeyeMを開発した。EBeyeMは,2X nm技術ノード用にプロトタイプEBeyeMの信号対ノイズ比(SNR)と欠陥感度の間の相関を考慮して改造された。感度の改善がピクセルサイズの微小化により画像品質の改善につながり,解像度を向上させ,ノイズを減少さ,TDIセンサに入射する電子数を増加させ,欠陥SNRを改善した。

シソーラス用語： 加工欠陥 ,  *フォトマスク ,  *欠陥検査 ,  試験装置 ,  電子照射 ,  電子顕微鏡観察 ,  画像処理 ,  イメージセンサ ,  *フォトリソグラフィー ,  真空紫外線
準シソーラス用語： EUVリソグラフィー ,  フォトマスク欠陥

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (1件)： マスク検査