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J-GLOBAL ID：201202262059381379   整理番号：12A0065809

計算機リソグラフィー:193-nmプロジェクションリソグラフィーの解像限界排除

Computational lithography: Exhausting the resolution limits of 193-nm projection lithography systems

著者 (11件)： MELVILLE David O. S. (IBM T.J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York, 10598) ,  ROSENBLUTH Alan E. (IBM T.J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York, 10598) ,  WAECHTER Andreas (IBM T.J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York, 10598) ,  MILLSTONE Marc (IBM T.J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York, 10598) ,  TIRAPU-AZPIROZ Jaione (IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, Hopewell Junction, New York 12590) ,  TIAN Kehan (IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, Hopewell Junction, New York 12590) ,  LAI Kafai (IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, Hopewell Junction, New York 12590) ,  INOUE Tadanobu (IBM Res., Tokyo, Yamato, Kanagawa, JPN) ,  SAKAMOTO Masaharu (IBM Res., Tokyo, Yamato, Kanagawa, JPN) ,  ADAM Kostas (Mentor Graphics Corp., San Jose, California) ,  TRITCHKOV Alexander (Mentor Graphics Corp., San Jose, California)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 29  号： 6  ページ： 06FH04  発行年： 2011年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近まで,波長と開口数の変更が半導体製造システムのスケーリングを支配してきた。現在,このようなスケーリングの分野で継続的な利益を得るため方法が存在しないため,193nmの液浸投影リソグラフィ(193i)システムに対しても,もはやそのような場合ではない。代わりに,パターニングプロセスとシステムの最適化などの技術を含んだ範囲をシステムの限界を押し上げるために使用している。本論文では,現在の固定波長および開口数を持つシステムのスケーリングを牽引している要素をレビューする。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  計算機シミュレーション ,  *紫外線 ,  *レンズ ,  *分解能 ,  閾値 ,  波長 ,  開口数 ,  装置 ,  縮小 ,  露光 ,  性質 ,  液浸露光 ,  *深紫外線 ,  窒化ナトリウム ,  スケールダウン ,  *投写レンズ ,  計算機利用 ,  利用
準シソーラス用語： 193-nm ,  スケーリングダウン ,  *プロジェクションレンズ ,  解像力 ,  *計算機リソグラフィー ,  特異性 ,  半導体製造装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 計算機リソグラフィー ,  解 ,  限界 ,  排除