文献

J-GLOBAL ID：201202262546332979   整理番号：12A0965150

炭素ベースのスピン-オン有機ハードマスクによるサブ50nmのナノパターン

Sub 50nm Nano-Patterns with Carbon Based Spin-On Organic Hardmask

著者 (5件)： SHIN Ju-Hyeon (Korea Univ., Seoul, KOR) ,  YANG Ki-Yeon (Korea Univ., Seoul, KOR) ,  HAN Kang-Soo (Korea Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Hyeong-Seok (Chung-Ang Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Heon (Korea Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 12  号： 4  ページ： 3364-3368  発行年： 2012年04月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Siのマスタテンプレートから出発して,PET基板上のPUA(ポリウレタンアクリレート)への転写,炭素ベースのスピンオン有機化合物のコーティング,プレシングによるの転写,それをマスクとするエッチングによってSi₃N₄にパターンを形成する方法を述べる。フッ素ベースのプラズマエッチングによってSi₃N₄上にナノパターンを作ることができる。

シソーラス用語： *ポリウレタンアクリレート ,  スピンコーティング ,  有機化合物 ,  *マスク ,  型 ,  ケイ素 ,  型枠 ,  板 ,  転写 ,  エッチング ,  プラズマエッチング ,  窒化ケイ素 ,  誘電体薄膜 ,  *リソグラフィー
準シソーラス用語： テンプレート【型板】 ,  ナノパターン ,  *ハードマスク ,  マスタテンプレート

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 炭素 ,  スピン ,  ハードマスク ,  サブ ,  ナノパターン