従来の読出し/書込みヘッドをもつ1テラドット/インチ<sup>2</sup>CoCrPtビットパターン形成媒体の作製及び記録性能

DOBISZ Elizabeth A.; KERCHER Dan; GROBIS Michael; HELLWIG Olav; MARINERO Ernesto E.; WELLER Dieter; ALBRECHT Thomas R.

文献

J-GLOBAL ID：201202263007878379 整理番号：12A1711940

従来の読出し/書込みヘッドをもつ1テラドット/インチ²CoCrPtビットパターン形成媒体の作製及び記録性能

Fabrication of 1 Teradot/in.² CoCrPt bit patterned media and recording performance with a conventional read/write head

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資料名：
巻： 30 号： 6 ページ： 06FH01-06FH01-8 発行年： 2012年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

1テラドット/インチ²(Td/in.²)CoCrPt合金ビットパターン形成媒体(BPM)ディスクを,直接書込みeビームリソグラフィーによりパターン形成し,記録性能を,市販記録ヘッドにより測定した。記録分析は,2×10^-3の最小誤り率を示し,BPMパターン形成結果の割合により制限された。連続磁気媒体ディスクを,PECVDによる20nm厚炭素ハードマスク,その後の,スピンコーティングによる8.5nm厚水素シルセスキオキサン(HSQ)レジストで被覆した。一連の1Td/in.²ドットパターンを,HSQにeビーム書き込みし,パターンを,反応性イオンエッチングにより炭素ハードマスクにエッチした。下層の磁気媒体を,200eV アルゴンで物理的にエッチした。炭素ハードマスク最大厚を,炭素ハードマスクエッチ中におけるHSQドットの腐食及び磁気媒体エッチ中におけるマスクのシャドーイングにより制限した。最小炭素厚及び最大CoCrPt厚を,CoCrPt磁気媒体のエッチング中におけるハードマスクピラーの腐食により決定した。最適炭素ハードマスク厚を,~20nmと決定した(このPECVD炭素のために)。最適CoCrPt磁気媒体厚は,6nmで,エッチ選択性及び磁気特性により決定した。Silvacoモンテカルロ3Dモデルシミュレーションを用いて,磁気媒体エッチング過程を記述した。付加的なパターン形成ステップは,パターン形成磁気媒体と接触して走査する記録ヘッドに関して,物理的サポートをパターンの周りに形成した。BPMBPMパターンのトップダウンSEM顕微鏡写真の分析は,3×10^-4の低い欠陥率及び0.9nmの1シグマドット配置許容度を示した。磁気保磁力及びスイッチング場分布幅を,極性磁気光学マイクロKerr効果ヒステリシスループ(20~50μmのスポットサイズで)から測定した。高い率の腐食あるいは合併磁気島を生成するパターン形成プロセス条件は,BPM保磁力を低下させ,スイッチング場分布の相対的な幅を増大させた。磁気記録を,シングル書込み法で,磁気書込み幅90nmの市販記録ヘッドで行った。記録誤り率最小は,磁気スイッチング場分布幅と同様に,欠陥の率と共に変化した。高い欠陥の率は,ヘッドからの漂遊磁場によるデータ消去による記録誤り確率の増大を生じた。(翻訳著者抄録)

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固体デバイス製造技術一般 , 電子・磁気・光学記録

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従来の読出し/書込みヘッドをもつ1テラドット/インチ2CoCrPtビットパターン形成媒体の作製及び記録性能

従来の読出し/書込みヘッドをもつ1テラドット/インチ²CoCrPtビットパターン形成媒体の作製及び記録性能