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J-GLOBAL ID：201202264593415141   整理番号：12A1718426

eビームリソグラフィにより作製した高性能回折格子

High performance diffraction gratings made by e-beam lithography

著者 (8件)： ZEITNER Uwe D. (Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU) ,  ZEITNER Uwe D. (Friedrich-Schiller-University Jena, Inst. for Applied Physics, Max Wien Platz 1, 07743, Jena, DEU) ,  OLIVA Maria (Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU) ,  FUCHS Frank (Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU) ,  MICHAELIS Dirk (Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU) ,  BENKENSTEIN Tino (Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU) ,  HARZENDORF Torsten (Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU) ,  KLEY Ernst-Bernhard (Friedrich-Schiller-University Jena, Inst. for Applied Physics, Max Wien Platz 1, 07743, Jena, DEU)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 109  号： 4  ページ： 789-796  発行年： 2012年12月 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 回折格子は宇宙ミッションあるいは超短パルスレーザ圧縮装置のようないろいろな高性能光学装置の基本的なコンポーネントである。このような種類の利用では今日の技術で可能な技術的限界に近いところで動作する回折格子を必要とする。典型的な臨界パラメータは回折効率及びその偏光依存性,回折格子により生じる波面の乱れ,及び迷光性能である。さらに,宇宙利用では特別な環境要件が必要であり,レーザ利用には高い損傷閾値が必要である。これら全ての特性をかなり大きい回折面積で正確に制御する必要がある。200mmまたはそれ以上の格子の大きさが普通である。ここでは如何にしてそのような高性能格子を電子ビームリソグラフィ及びそれに付随する技術により実現できるかについてレビューした。その方法をいろいろな例で示した。最初の例はESAのGAIAミッションのRadial-Velocity-Spectrometerのための格子の設計及び作製である。第二の格子は最適設計により波長共鳴のない反射パルス圧縮エレメントである。最後の例はおよそ86%の回折効率をもつ共鳴ドメインにおける三準位ブレーズド格子である。Copyright 2012 Springer-Verlag Berlin Heidelberg Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,  *回折格子 ,  *宇宙環境 ,  回折効率 ,  波面収差 ,  レーザ損傷 ,  閾値 ,  パルス圧縮 ,  三準位系 ,  *宇宙飛行体
準シソーラス用語： 偏光依存性 ,  ブレーズド格子

分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  宇宙飛行体  (QK08000Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： ビーム ,  リソグラフィ ,  作製 ,  高性能 ,  回折格子