文献

J-GLOBAL ID：201202265072833288   整理番号：12A0838321

高周波プラズマを使ったN@C₆₀の高純度合成と紫外線照射下での安定性

High Purity Synthesis of N@C₆₀ Using RF-Plasma and Its Stability under UV-Irradiation

著者 (3件)： CHO S. C. (Tohoku Univ.) ,  KANEKO T. (Tohoku Univ.) ,  HATAKEYAMA R. (Tohoku Univ.)
資料名： フラーレン・ナノチューブ・グラフェン総合シンポジウム講演要旨集  (Abstracts. Fullerenes-Nanotubes-Graphene General Symposium)
巻： 42nd  ページ： 137  発行年： 2012年03月06日 
JST資料番号： L1472A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *窒素 ,  *フラーレン ,  *プラズマ加熱 ,  *高周波加熱 ,  純度 ,  昇華 ,  速度 ,  *化学合成 ,  *安定性 ,  *紫外線照射
準シソーラス用語： *高周波プラズマ加熱 ,  高純度 ,  *内包フラーレン

分類 (4件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  プラズマ生成・加熱  (BJ02060E) ,  抵抗性  (YH02050K)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高周波プラズマ ,  高純度 ,  紫外線照射 ,  安定性