文献

J-GLOBAL ID：201202266005123825   整理番号：12A0248631

Ti及びNb₂O₅ ターゲットからの反応性共スパッタリングにより生成したTiO_x とNbドープ膜の透過伝導特性

Transparent Conductive Properties of TiO_x and Nb-Doped TiO_x Films Produced by Reactive Co-Sputtering from Ti and Nb₂O₅ Targets

著者 (1件)： AKAZAWA Housei (NTT Microsystem Integration Lab., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 1,Issue 1  ページ： 015803.1-015803.5  発行年： 2012年01月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 400°CでのTiターゲットからの金属モード反応性電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタリングにより蒸着した酸素欠損TiO_x膜の構造,及び,透過伝導特性について調査した。著しく低下した状態(X~1)の結晶は,抵抗が10^-4から10^-3Ωmの範囲にある面心立方(fcc)構造を有し,可視光波長での光透過性は,25から55%であった。十分に酸化した状態(X~2)では,10^-2Ωmより高い抵抗では,ルチルが核化し,光透過性は,60から80%であった。xの増加と共に,結晶性が非晶質状態に近づくが,中間組成(1<x<2)は,fcc構造に対応する。500°Cよりも高い蒸着温度では,厚い膜においてのみ,マグネリ相への結晶化が見られた。キャリアは,ルチルについては,n型であるが,fccとマグネリ相については,p型であった。Nb₂O₅ターゲットからのNbとOの共スパッタリングを行うTiO_xの金属モード・スパッタリングにより,NbドープTiO_x膜を生成した。酸化ルチル状態においてのみ,Nb5+のドナーの役割を同定できたが,Tiサイトを置換したNb原子の酸化により,高いNb₂O₅スパッタリング出力において,抵抗が上昇した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *反応性スパッタリング ,  チタン ,  ニオブ ,  ECRプラズマ ,  スパッタリング ,  *点欠陥 ,  *酸化チタン ,  スパッタ蒸着 ,  *電気伝導率 ,  *光透過 ,  *キャリア密度 ,  Hall移動度 ,  化合物半導体
準シソーラス用語： 反応性共スパッタリング ,  電子サイクロトロン共鳴プラズマ ,  プラズマスパッタリング ,  *酸素欠損

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X)

引用文献 (34件)：

• 1) M. Radecka, K. Zakrzewska, H. Czternastek, T. Strapinski, and S. Debrus: Appl. Surf. Sci. 65-66 (1993) 227.
• 2) H. Tang, K. Prasad, R. Sanjines, P. E. Schmid, and F. Levy: J.Appl. Phys. 75 (1994) 2042.
• 3) L. Forro, O. Chauvet, D. Emin, L. Zuppiroli, H. Berger, and F. Levy: J. Appl. Phys. 75 (1994) 633.
• 4) C. Li, Z. Zheng, F. Zhang, S. Yang, H. Wang, L. Chen, F. Zhang, X. Wang, and X. Liu:Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 169 (2000) 21.
• 5) T. Miyata, S. Tsukada, and T. Minami: Thin Solid Films 496 (2006) 136.

タイトルに関連する用語 (9件)： Ti ,  ターゲット ,  反応性 ,  共スパッタリング ,  TiOx ,  Nb ,  ドープ ,  透過 ,  伝導