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J-GLOBAL ID：201202267751991561   整理番号：12A1525034

高オーバーレイ精度e-ビームリソグラフィのための最適化マーカーの定義

Optimized marker definition for high overlay accuracy e-beam lithography
著者 (9件)：
MOERS J.

MOERS J. について

(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)

Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU について

, 
GRUTZMACHER D.

GRUTZMACHER D. について

(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)

Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU について

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TRELLENKAMP St.

TRELLENKAMP St. について

(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)

Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU について

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OFFENHAUSSER A.

OFFENHAUSSER A. について

(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)

Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU について

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MOERS J.

MOERS J. について

(JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU)

JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU について

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TRELLENKAMP St.

TRELLENKAMP St. について

(JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU)

JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU について

, 
GRUTZMACHER D.

GRUTZMACHER D. について

(JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU)

JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU について

, 
OFFENHAUSSER A.

OFFENHAUSSER A. について

(JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU)

JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU について

, 
RIENKS B.

RIENKS B. について

(Vistec Lithography B.V., Best, NLD)

Vistec Lithography B.V., Best, NLD について


資料名：
Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)

Microelectronic Engineering について


巻： 97  ページ： 68-71  発行年： 2012年09月 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
タイトルに関連する用語 (6件)：
タイトルに関連する用語
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オーバーレイ

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ビーム

ビーム について

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リソグラフィ

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最適化

最適化 について

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マーカー

マーカー について

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定義

定義 について


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