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J-GLOBAL ID：201202273122802608   整理番号：12A0222258

N⁺イオン照射したTiO₂薄膜の光機能特性

著者 (4件)： シュクル ハイデル (工学院大) ,  佐藤光史 (工学院大) ,  中村勲 (東京都産業技術研究セ) ,  鷹野一朗 (工学院大)
資料名： 真空に関する連合講演会講演予稿集
巻： 52nd  ページ： 88  発行年： 2011年11月16日 
JST資料番号： L1308A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜 ,  反応性スパッタリング ,  窒素 ,  イオン照射 ,  *光触媒 ,  *二酸化チタン

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (4件)： イオン照射 ,  TiO2 ,  薄膜 ,  機能特性