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J-GLOBAL ID：201202275264008855   整理番号：12A0248627

水素ガスがある場合でのPt薄膜の仕事関数と電気抵抗の変化

Changes in Work Function and Electrical Resistance of Pt Thin Films in the Presence of Hydrogen Gas

著者 (5件)： TSUKADA Keiji (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  INOUE Hirotsugu (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  KATAYAMA Fumiya (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  SAKAI Kenji (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  KIWA Toshihiko (Okayama Univ., Okayama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 1,Issue 1  ページ： 015701.1-015701.8  発行年： 2012年01月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水素ガスがある場合でのPt薄膜の仕事関数と電気抵抗といった電気特性の変化について,調査した。この変化を,気体窒素を含む雰囲気,及び,空気を含む雰囲気における種々の濃度の水素ガスにおいて,フロースルーセルにより同時測定した。抵抗を,4端子感知法により測定し,電界効果トランジスターにより,相対仕事関数を測定した。両雰囲気において,水素の濃度が増加すると,抵抗が下がった。この結果は,拡散H原子の結果としてPt膜内部の電子キャリア密度の増加に関する動的機構の違いにより,空気のみにおいて再現可能である。窒素雰囲気では,表面障壁により,拡散H原子が簡単に放出されなかった。一方,酸素ガスは,表面におけるH原子と反応し,この反応は,空気への原子放出を加速させた。仕事関数から,両雰囲気において,反復可能な応答を示したが,応答特性は異なっていた。水素の吸着,及び,脱着間の平衡反応は,窒素雰囲気では,表面で発生したが,空気中では,水分子を形成する水素と酸素の平衡反応が発生した。水素がある場合での仕事関数,及び,抵抗の変化が,バルクにおける解離水素強度の変化,及び,表面反応によるものである。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 気体 ,  *水素 ,  *白金 ,  *金属薄膜 ,  仕事関数 ,  *電気抵抗 ,  雰囲気 ,  *濃度依存性 ,  *FET【トランジスタ】 ,  ガスセンサ
準シソーラス用語： 水素センサ

分類 (3件)： 金属結晶の電子伝導  (BM03033M) ,  トランジスタ  (NC03070N) ,  分析機器  (CC02020S)

引用文献 (16件)：

• 1) K. Christmann: Surf. Sci. Rep. 9 (1988) 1.
• 2) S. C. Badescu, P. Salo, T. Ala-Nissila, S. C. Ying, K. Jacobi, Y. Wang, K. Bedurftig, and G. Ertl: Phys. Rev. Lett. 88 (2002) 136101.
• 3) S. Horch, H. T. Lorensen, S. Helverg, E. Legsgaard, I. Stensgaard, K. W. Jacobsen, J. K. N隹rdkov, and F. Besenbacher: Nature 398 (1999) 134.
• 4) G. L. Kellogg: Phys. Rev. Lett. 79 (1997) 4417.
• 5) M. K. Oudenhuijzen, J. A. van Bokhoven, D. E. Ramaker, and D. C. Koningsberger: J. Phys. Chem. B 105 (2001) 4616.

タイトルに関連する用語 (5件)： 水素ガス ,  Pt ,  薄膜 ,  仕事関数 ,  電気抵抗