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J-GLOBAL ID：201202276923158394   整理番号：12A0239140

電気化学的機械的研磨中のタンタルの酸化に対する電位と機械的刺激の影響

Effects of Potential and Mechanical Stimulation on Oxidation of Tantalum During Electrochemical Mechanical Polishing

著者 (2件)： GAO F. (Texas A&M Univ., Dep. of Mechanical Engineering, 3123 TAMU, 77843-3123, Coll. Station, TX, USA) ,  LIANG Hong (Texas A&M Univ., Dep. of Mechanical Engineering, 3123 TAMU, 77843-3123, Coll. Station, TX, USA)
資料名： Journal of Electronic Materials  (Journal of Electronic Materials)
巻： 41  号： 3  ページ： 624-631  発行年： 2012年03月 
JST資料番号： D0277B  ISSN： 0361-5235  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 応力の下での金属の酸化は多くの工業アプリケーション,特に化学機械的研磨(CMP)において,重要な役割をはたす。ここで筆者等は,CMP中のタンタル(Ta)の酸化に対する機械的刺激の影響について報告した。タンタル表面を各種陽極電位と各種機械力で研磨した。ポテンシオスタットを使って電気化学的機械的研磨(ECMP)中の陽極反応電流を測定した。原子間力顕微鏡法(AFM)を使って測定した材料除去率(MRR)を,Faradayの法則を使って計算したものと比較した。陽極電位と機械力の関係をリンクさせた(あるは確立した)。MRRは定機械力での電位の2次多項関数であり,対数関数が続く。より多い亜酸化物が極端な電位(低または高)で存在し,中間の電位では5酸化物が生成したことが分かった。ECMP中のTaの酸化過程を説明するモデルを提案した。Taの酸化は陽極電位と機械力の関数であった。この研究で使用したex situ法は,研磨におけるTa酸化のin situ観察を果たしたた。さらに,この方法は他の金属の酸化を調べるのに使用することができる。Copyright 2011 TMS Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 化学研磨 ,  *電解研磨 ,  タンタル ,  *腐食電位 ,  直流電源 ,  定電圧電源 ,  顕微鏡観察 ,  比率 ,  酸化物 ,  *化学機械研磨
準シソーラス用語： *CMP【化学研磨】 ,  Faradayの法則 ,  ポテンショスタット ,  亜酸化物 ,  原子間力顕微鏡法 ,  材料除去率 ,  電気化学的研磨

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 化学的機械的研磨 ,  タンタル ,  酸化 ,  電位 ,  機械的刺激