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J-GLOBAL ID:201202285864997378   整理番号:12A0543019

パルスプラズマ援用化学気相成長法による環境セル型透過電子顕微鏡用a-SiCN隔膜の開発

Development of a-SiCN Diaphragm for Transmission Electron Microscope with Environmental Cell by Using Pulse Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
著者 (5件):
資料名:
巻: 19  号:ページ: 159-164  発行年: 2011年12月 
JST資料番号: L4460A  ISSN: 1340-3214  CODEN: POKAFE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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ヘキサメチルジシラザンを原料としたパルスプラズマCVD法を開発し,環境セル透過型電子顕微鏡用a-SiCN隔膜を開発した。真空圧力を高くすることにより,残留酸素の影響を抑制して,良好なa-SiCN薄膜を得ることができた。SiCN隔膜は,200keVの電子線に対して,透明で安定で,その耐圧は0.1MPaであった。反応ガス雰囲気において,200keV電子線の照射に対して,通常のアモルファスカーボンは数秒で破損するのに対し,開発したa-SiCN隔膜は10分以上安定で,寿命が飛躍的に向上した。
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分類 (3件):
分類
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その他の無機化合物の薄膜  ,  その他の物質の放射線による構造と物性の変化  ,  電子顕微鏡,イオン顕微鏡 
引用文献 (11件):

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