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J-GLOBAL ID：201202292445435188   整理番号：12A0688224

EUVリソグラフィーセンター

Center for EUV Lithography

著者 (2件)： WATANABE Takeo (Univ. Hyogo) ,  KINOSHITA Hiroo (Univ. Hyogo)
資料名： LASTI Annual Report  (LASTI Annual Report)
巻： 12  ページ： 9-10  発行年： 2012年03月 
JST資料番号： L4711A  ISSN： 2189-6909  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 兵庫大学EUVリソグラフィーセンター(ECL)及びECLのEUVL用のビームラインの概要を示した。極端紫外リソグラフィー(EUVL)の開発は1995年から続いている。世界に先駆けて開発した全視野露光装置を用いて,2000年にはhp40nmのレジスト微細パターンを複製した。2002年から2007年にかけてマスク欠陥検査用のEUV顕微鏡を開発した。また,2000年以来,EUV照射時のアウトガス評価を行ってきた。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  極端紫外線 ,  *ビームライン ,  フォトレジスト ,  *回路パターン形成 ,  欠陥検査 ,  フォトマスク ,  放射光施設
準シソーラス用語： *EUVリソグラフィー ,  露光装置 ,  NewSUBARU

分類 (2件)： 加速器一般及び理論  (BE02010M) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： EUVリソグラフィー ,  センター