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J-GLOBAL ID:201202295700509793   整理番号:12A1348976

X線自由電子レーザーのナノ集光

Nanofocusing of X-Ray Free Electron Laser
著者 (1件):
資料名:
巻: 40  号:ページ: 691-695  発行年: 2012年09月15日 
JST資料番号: X0335A  ISSN: 0387-0200  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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X線自由電子レーザー(XFEL),特に日本のSACLAの集光について,現状や今後の課題について報告した。X線を回折限界の条件で集光するためのミラーに求められる精度や,その精度を実現する加工・計測技術を紹介した。X線ミラーに要求される精度,X線ミラーの作製方法,SACLAへの導入とXFEL集光実験を説明した。SACLにおいて,1μmの集光が実現している。また,多くの研究者による集光ビームの利用が開始されている。さらに,集光を更に小さくするための研究も進めていることを示した。
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