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J-GLOBAL ID：201202298918501386   整理番号：12A0562913

サブ100nmリフトオフ構造用先進的コロイドリソグラフィー

Advanced colloidal lithography for sub-100 nm lift-off structures

著者 (4件)： HOMONNAY Nico (Interdisziplinaeres Zentrum fuer Materialwissenschaften, Martin-Luther-Universitaet Halle-Wittenberg ...) ,  GEYER Nadine (Max Planck Inst. of Microstructure Physics, Weinberg 2, D-06120 Halle, DEU) ,  FUHRMANN Bodo (Interdisziplinaeres Zentrum fuer Materialwissenschaften, Martin-Luther-Universitaet Halle-Wittenberg ...) ,  LEIPNER Hartmut S. (Interdisziplinaeres Zentrum fuer Materialwissenschaften, Martin-Luther-Universitaet Halle-Wittenberg ...)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 86  号： 9  ページ： 1232-1234  発行年： 2012年03月14日 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応性イオンエッチング及びリフトオフプロセスと組み合わされたコロイドリソグラフィーによる,六角形に整列した波長以下のホールアレイ(SWHA)作製と,走査電子顕微鏡とエリプソメトリーによるその特性評価を報告した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *微細加工 ,  RIE【エッチング】 ,  細孔構造 ,  波長 ,  *金属薄膜 ,  金 ,  ポリスチレン ,  層 ,  サブ波長
準シソーラス用語： *コロイドリソグラフィー ,  *リフトオフ法 ,  犠牲層

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  コロイド化学一般  (CB11010C) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (3件)： サブ ,  リフトオフ ,  コロイドリソグラフィー