特許
J-GLOBAL ID：201203002136806029
決定方法及びプログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
藤元 亮輔
, 水本 敦也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-156753
公開番号（公開出願番号）：特開2012-235151
出願日： 2012年07月12日
公開日（公表日）： 2012年11月29日
要約：
【課題】最終製品としてのデバイスを歩留まり良く製造する。【解決手段】光源からの光を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する露光装置の露光パラメータの値をコンピュータに決定させる決定方法であって、露光パラメータの値を設定するステップと、設定された露光パラメータの値を用いてレチクルのパターンの光学像を計算することにより、被露光体に形成されるパターンの電気的特性を求めるステップと、前記被露光体に形成されるパターンの電気的特性と露光パラメータとの関係を表す情報を用いて、求められる電気的特性が所定の電気的特性を満足するように、設定された露光パラメータの値を調整する調整ステップとを有し、調整ステップは、光学系に依存する第1の露光パラメータの値を光学シミュレーションを用いて調整するステップと、光学系に依存しない第2の露光パラメータの値を光学シミュレーションを用いずに調整するステップとを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光源からの光を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する露光装置の露光パラメータの値をコンピュータに決定させる決定方法であって、
前記露光パラメータの値を設定するステップと、
該設定された露光パラメータの値を用いて前記レチクルのパターンの光学像を計算することにより、前記被露光体に形成されるパターンの電気的特性を求めるステップと、
前記被露光体に形成されるパターンの電気的特性と前記露光パラメータとの関係を表す情報を用いて、該求められる電気的特性が所定の電気的特性を満足するように、該設定された露光パラメータの値を調整する調整ステップとを有し、
前記調整ステップは、
光学系に依存する第1の露光パラメータの値を光学シミュレーションを用いて調整するステップと、
前記光学系に依存しない第2の露光パラメータの値を光学シミュレーションを用いずに調整するステップとを有することを特徴とする決定方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/30 516Z
, H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502Z
5F146AA28
, 5F146BA03
, 5F146DA12
, 5F146DA30
