特許
J-GLOBAL ID：201203005579598665

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法

発明者：
堀 雅史

堀 雅史 について

, 
中島 浩光

中島 浩光 について

, 
丸山 研

丸山 研 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (8件)： 天野 一規 ,  藤本 勝誠 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  加藤 早苗 ,  石田 耕治 ,  森田 慶子 ,  各務 幸樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-211650
公開番号（公開出願番号）：特開2012-185472
出願日： 2011年09月27日
公開日（公表日）： 2012年09月27日
要約：
【課題】MEEF、LWR、CDU及び耐パターン倒れ性を十分に満足するレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。【解決手段】[A]下記式(1)で表される構造単位(I)及び酸解離性基を有する構造単位を含む重合体、[B]下記式(2)で表される光崩壊性を有する塩、並びに[C]感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
[A]下記式(1)で表される構造単位(I)及び酸解離性基を有する構造単位を含む重合体、 [B]下記式(2)で表され、光崩壊性を有する塩、並びに [C]感放射線性酸発生体 を含有する感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 20/38 ,  C09K 3/00
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F20/38 ,  C09K3/00 K
Fターム (44件)：
2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN54P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA11R ,  4J100BA12P ,  4J100BA15P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC09R ,  4J100BC53R ,  4J100BC84P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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