レジストパターン形成方法、ネガ型現像用レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-016422
公開番号（公開出願番号）：特開2012-073565
出願日： 2011年01月28日
公開日（公表日）： 2012年04月12日
要約：

【課題】有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、および該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物を提供する。【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、前記(A)として、酸の作用によりアルコール性水酸基を生じて親水性が増大する酸分解性基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を用いる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、前記基材成分(A)として、酸の作用によりアルコール性水酸基を生じて親水性が増大する酸分解性基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を用いることを特徴とするレジストパターン形成方法。

IPC (6件)：

G03F 7/038 , G03F 7/039 , G03F 7/004 , G03F 7/32 , H01L 21/027 , C08F 220/28

FI (6件)：

G03F7/038 601 , G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , G03F7/32 , H01L21/30 502R , C08F220/28

Fターム (57件)：

2H096AA25 , 2H096BA06 , 2H096DA04 , 2H096EA03 , 2H096EA05 , 2H096EA23 , 2H096FA01 , 2H096GA03 , 2H096HA01 , 2H096JA02 , 2H096JA03 , 2H096JA04 , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF33P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF70P , 2H125AH05 , 2H125AH11 , 2H125AH13 , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ12X , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AM22P , 2H125AM99P , 2H125AN02P , 2H125AN21P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125BA01P , 2H125BA08P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA05 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA03P , 4J100BA22P , 4J100BC09P , 4J100BC53Q , 4J100BC84Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (14件)

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-190971 出願人：富士フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-145284 出願人：東京応化工業株式会社
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-155323 出願人：富士フイルム株式会社

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