特許
J-GLOBAL ID：201203006318290813

液滴塗布装置及び液滴塗布方法

発明者：
古水戸 順介

古水戸 順介 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (2件)： 小川 眞一 ,  中原 文彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-107039
公開番号（公開出願番号）：特開2012-236152
出願日： 2011年05月12日
公開日（公表日）： 2012年12月06日
要約：
【課題】塗布対象物に所望の塗布量で液滴を塗布し、塗布製品の品質を向上させる。【解決手段】液滴塗布装置1は、塗布対象物Wを支持するステージ2と、複数のノズルが並ぶノズル列を有するインクジェット式の塗布ヘッド4と、その塗布ヘッド4とステージ2とを塗布対象物Wの塗布面Waに沿ってノズル列に交差する第1の方向に相対移動させる移動装置3と、塗布面Wa上における液滴の塗布位置を示す情報を含む塗布パターンを設定するパターン設定部8bと、その塗布パターンに基づいて移動装置3及び塗布ヘッド4を制御し、ステージ2上の塗布対象物Wの塗布面Waに液滴を塗布する制御部8aとを備える。制御部8aは、前述の塗布パターンが複数のノズルの中で近接して位置するノズルから液滴を同時に吐出させる塗布パターンであったとき、当該近接して位置するノズル同士において液滴の吐出タイミングをずらすようにノズルからの液滴の吐出を制御する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
塗布面を有する塗布対象物を支持するステージと、 塗布液の液滴を吐出する複数のノズルが並ぶノズル列を有するインクジェット式の塗布ヘッドと、 前記ステージと前記塗布ヘッドとを前記ステージ上の前記塗布対象物の前記塗布面に沿って前記ノズル列に交差する第1の方向に相対移動させる移動装置と、 前記塗布面上における前記液滴の塗布位置を示す情報を含む塗布パターンを設定するパターン設定部と、 前記パターン設定部により設定された前記塗布パターンに基づいて前記塗布ヘッド及び前記移動装置を制御し、前記ステージ上の前記塗布対象物の前記塗布面に液滴を塗布する制御部と、 を備え、 前記制御部は、前記パターン設定部により設定された前記塗布パターンが前記複数のノズルの中で近接して位置するノズルから液滴を同時に吐出させる塗布パターンであったとき、当該近接して位置するノズル同士において前記液滴の吐出タイミングをずらすように前記ノズルからの液滴の吐出を制御することを特徴とする液滴塗布装置。
IPC (5件)：
B05C 5/00 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/00 ,  G02B 5/20
FI (5件)：
B05C5/00 101 ,  B05C11/10 ,  B05D1/26 Z ,  B05D3/00 D ,  G02B5/20 101
Fターム (23件)：
2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  4D075AC07 ,  4D075AC73 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075DA06 ,  4D075DC24 ,  4F041AA02 ,  4F041AB01 ,  4F041BA10 ,  4F041BA13 ,  4F041BA34 ,  4F041BA56 ,  4F042AA02 ,  4F042AB00 ,  4F042BA08 ,  4F042BA12 ,  4F042BA27 ,  4F042CB07
引用特許：
審査官引用 (4件)
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