特許
J-GLOBAL ID:201203009312397240
選択波長反射フィルム及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
大谷 保
, 平澤 賢一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-150659
公開番号(公開出願番号):特開2012-013963
出願日: 2010年06月30日
公開日(公表日): 2012年01月19日
要約:
【課題】特定の波長の光線を選択的に反射することができ、かつ、透明基材と配向したコレステリック構造を持つ棒状化合物からなる選択反射層とが高い密着性を有する選択波長反射フィルム及びその製造方法を提供すること。【解決手段】(A)基材A上に、棒状化合物を塗工し、該棒状化合物を配向させ、配向した棒状化合物を硬化させて選択反射層を設けた転写フィルムを得る工程、(B)該転写フィルムを、接着剤層を介して透明基材Bに転写する工程を有する選択波長反射フィルムの製造方法、及び透明基材上に接着剤層を介して選択反射層を少なくとも有し、該選択反射層がコレステリック構造を持つ棒状化合物からなる選択波長反射フィルムである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
(A)基材A上に、棒状化合物を塗工し、該棒状化合物を配向させ、配向した棒状化合物を硬化させて選択反射層を設けた転写フィルムを得る工程、(B)該転写フィルムを、接着剤層を介して透明基材Bに転写する工程を有する選択波長反射フィルムの製造方法。
IPC (3件):
G02B 5/26
, B32B 27/16
, B32B 27/18
FI (3件):
G02B5/26
, B32B27/16 101
, B32B27/18 Z
Fターム (38件):
2H048FA04
, 2H048FA07
, 2H048FA13
, 2H048FA23
, 2H149AB16
, 2H149BA05
, 2H149CA02
, 2H149CA05
, 2H149FA08W
, 2H149FA12Z
, 2H149FA14W
, 2H149FA27W
, 2H149FA54W
, 2H149FA56W
, 2H149FA58W
, 2H149FA61
, 2H149FA69
, 2H149FC08
, 4F100AG00E
, 4F100AK41D
, 4F100AK51D
, 4F100AT00E
, 4F100DE03C
, 4F100EJ05A
, 4F100EJ08A
, 4F100EJ53C
, 4F100EJ54C
, 4F100EJ65B
, 4F100GB07
, 4F100GB31
, 4F100JA11C
, 4F100JA20C
, 4F100JB12A
, 4F100JB14A
, 4F100JL11
, 4F100JL13E
, 4F100JN01E
, 4F100JN06C
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
光選択透過性素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-075162
出願人:日石三菱株式会社
-
光学積層体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-118676
出願人:日石三菱株式会社
-
赤外線カットオフフィルム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-299144
出願人:株式会社巴川製紙所
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