特許
J-GLOBAL ID：201203014509347400
積層セラミックキャパシタ及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
加藤 公延
, 大島 孝文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-243181
公開番号（公開出願番号）：特開2012-191165
出願日： 2011年11月07日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：
【課題】機械的強度及び信頼性に優れた積層セラミックキャパシタ及びその製造方法を提供する。【解決手段】積層セラミックキャパシタは、対向する第1の側面及び第2の側面と当該第1の側面及び第2の側面を連結する第3の側面3及び第4の側面4とを有する積層本体と、当該積層本体の内部に形成され上記第3の側面又は第4の側面から所定の間隔をおいて形成される内部電極121,122と、上記積層本体の上面及び下面の少なくとも一面に形成され上記第3の側面又は第4の側面と所定の間隔をおいて当該第3の側面又は第4の側面に沿って形成される溝部Vと、上記第3の側面及び第4の側面から上記積層本体の上面又は下面まで伸びて上記溝部を覆うように形成される外部電極131,132とを含むことができる。【選択図】図1b
請求項（抜粋）：
対向する第1の側面及び第2の側面と当該第1の側面及び第2の側面を連結する第3の側面及び第4の側面とを有する積層本体と、
前記積層本体の内部に形成され、前記第3の側面又は第4の側面から所定の間隔をおいて形成される内部電極と、
前記積層本体の上面及び下面の少なくとも一面に形成され、前記第3の側面又は第4の側面と所定の間隔をおいて当該第3の側面又は第4の側面に沿って形成される溝部と、
前記第3の側面及び第4の側面から前記積層本体の上面又は下面まで伸びて前記溝部を覆うように形成される外部電極と、
を含む、積層セラミックキャパシタ。
IPC (3件)：
H01G 4/30
, H01G 4/12
, H01G 4/232
H01G4/30 301B
, H01G4/12 349
, H01G4/12 352
, H01G4/30 301E
, H01G4/30 301D
, H01G4/30 311E
, H01G4/30 311Z
5E001AB03
, 5E001AD01
, 5E001AF06
, 5E082AA01
, 5E082AB03
, 5E082FF05
, 5E082FG26
, 5E082GG10
, 5E082LL01
, 5E082LL02
