特許
J-GLOBAL ID：201203015626294675

ガス導入機構を備えた長尺基板処理装置および処理方法

発明者：
大上 秀晴

大上 秀晴 について


出願人/特許権者：
住友金属鉱山株式会社

住友金属鉱山株式会社 について


代理人 (2件)： 辻川 典範 ,  山本 正緒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-269794
公開番号（公開出願番号）：特開2012-117131
出願日： 2010年12月02日
公開日（公表日）： 2012年06月21日
要約：
【課題】キャンロールの外周面と長尺基板との間に形成されるギャップ部にガスを導入して長尺基板を均一かつ効率的に冷却する方法を提供する。【解決手段】真空チャンバー内でロールツーロールで搬送される長尺基板Fに対して、内部に冷媒が循環し外周面にガス導入孔15a,15bを備えたキャンロールの当該外周面に部分的に長尺基板Fを巻き付けながら熱負荷の掛かる処理を行う長尺基板Fの処理方法であって、キャンロールの外周面上に画定される長尺基板Fの搬送経路の上流および下流にそれぞれ隣接して設けられたフィードロールの周速度とキャンロールの周速度とに差をつけながらキャンロールの外周面とそこに巻き付けられる長尺基板Fとの間に形成されるギャップ部にガス導入孔からガスを導入する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
真空チャンバー内でロールツーロールで搬送される長尺基板に対して、内部に冷媒が循環し外周面にガス導入孔を備えたキャンロールの当該外周面に部分的に長尺基板を巻き付けながら熱負荷の掛かる処理を行う長尺基板の処理方法であって、 前記キャンロールの外周面上に画定される長尺基板の搬送経路の上流および下流にそれぞれ隣接して設けられたフィードロールの周速度とキャンロールの周速度とに差をつけながらキャンロールの外周面とそこに巻き付けられる長尺基板との間に形成されるギャップ部にガス導入孔からガスを導入することを特徴とする長尺基板処理方法。
IPC (1件)：
C23C 14/34
FI (1件)：
C23C14/34 M
Fターム (15件)：
4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA08 ,  4K029BA25 ,  4K029BB02 ,  4K029CA05 ,  4K029DC03 ,  4K029DC04 ,  4K029DC16 ,  4K029DC25 ,  4K029DC39 ,  4K029JA02 ,  4K029JA10 ,  4K029KA00 ,  4K029KA03
引用特許：
審査官引用 (4件)
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