特許
J-GLOBAL ID：201203017013216119
マスク欠陥検査装置およびマスク欠陥検査方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-138062
公開番号（公開出願番号）：特開2012-002676
出願日： 2010年06月17日
公開日（公表日）： 2012年01月05日
要約：
【目的】焦点位置の異なる検査画像を取得することでマスクの高精度な欠陥検出を実現するマスク欠陥検査装置を提供する。【構成】光源と、光源から出射された光を第1および第2の検査光に分岐してマスクの同一面の異なる領域に照射する照明光学系と、マスクに照射された第1および第2の検査光を、第1および第2の像として同一像面に結像する結像光学系と、第1の像と第2の像を、それぞれ拡大する第1および第2の拡大光学系と、第1および第2の拡大光学系で拡大された第1および第2の像をそれぞれ撮像する第1および第2の画像センサと、第1および第2の画像センサで撮像された第1および第2の像の画像である、第1および第2の検査画像と、基準画像とを比較して前記マスクの欠陥を検出する比較部と、を備え、第1の拡大光学系の像面に対する焦点位置と、第2の拡大光学系の像面に対する焦点位置とを所定の量だけずらす機構を有することを特徴とするマスク欠陥検査装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光源と、
前記光源から出射された光を第1および第2の検査光に分岐してマスクの同一面の異なる領域に照射する照明光学系と、
前記マスクに照射された前記第1および第2の検査光を、第1および第2の像として同一像面に結像する結像光学系と、
前記第1の像と第2の像を、それぞれ拡大する第1および第2の拡大光学系と、
前記第1および第2の拡大光学系で拡大された第1および第2の像をそれぞれ撮像する第1および第2の画像センサと、
前記第1および第2の画像センサで撮像された第1および第2の像の画像である、第1および第2の検査画像と、基準画像とを比較して前記マスクの欠陥を検出する比較部と、
を備え、
前記第1の拡大光学系の前記像面に対する焦点位置と、前記第2の拡大光学系の前記像面に対する焦点位置とを所定の量だけずらす機構を有することを特徴とするマスク欠陥検査装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051AC02
, 2G051BA05
, 2G051BA10
, 2G051BB03
, 2G051CA04
, 2G051CA07
, 2G051CB01
, 2G051CC09
, 2G051CC20
, 2G051DA07
, 2G051EA16
, 2G051EB01
, 2G051ED11
