ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-155701
公開番号（公開出願番号）：特開2012-018304
出願日： 2010年07月08日
公開日（公表日）： 2012年01月26日
要約：

【課題】ラフネスがより低減され、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】α位の炭素原子に水素原子以外の原子又は置換基が結合していてもよいアクリル酸エステルから誘導される、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位(a1)及び-SO2-含有環式基を含む構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)と、一般式(c1)で表される化合物(C1)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物。一般式(c1)中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基;Y1は2価の脂肪族炭化水素基;R1は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基である。pは1〜10の整数、A+は有機カチオンを表す。[化1]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

α位の炭素原子に水素原子以外の原子又は置換基が結合していてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって酸解離性溶解抑制基を含む構成単位(a1)、及び、α位の炭素原子に水素原子以外の原子又は置換基が結合していてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって-SO2-含有環式基を含む構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)と、下記一般式(c1)で表される化合物(C1)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)(ただし、前記化合物(C1)を除く)とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07C 381/12 , C07C 311/09 , C08F 220/38 , C08F 220/26 , C08F 220/18

FI (7件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C07C381/12 , C07C311/09 , C08F220/38 , C08F220/26 , C08F220/18

Fターム (53件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF45P , 2H125AH13 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH23 , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AN02P , 2H125AN37P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN54P , 2H125AN63P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA08P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4H006AA03 , 4H006AB81 , 4H006TN60 , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA02P , 4J100BA03R , 4J100BA04R , 4J100BA11P , 4J100BA15P , 4J100BA28P , 4J100BA58P , 4J100BB12P , 4J100BB18P , 4J100BC02P , 4J100BC09P , 4J100BC12P , 4J100BC83Q , 4J100BC84Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-185958 出願人：東京応化工業株式会社
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-097432 出願人：東京応化工業株式会社

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