特許
J-GLOBAL ID:201203023579838036

多孔質金属または金属合金から作成された基材、その調製方法、およびこの基材を含む金属支持体を用いたHTEまたはSOFCセル

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内藤 照雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-535144
公開番号(公開出願番号):特表2012-508320
出願日: 2009年11月12日
公開日(公表日): 2012年04月05日
要約:
部分的に酸化された基材であって、焼結によって結合された少なくとも1種の金属または金属合金の粒子を含む多孔質金属または金属合金から作成された基材で、前記基材が、第一の主表面および第二の主表面を含み、そして前記基材が、第一の主表面から第二の主表面のところまで空孔率の勾配を有しているものを、酸化性ガスたとえば酸素および/または空気による部分酸化にかけることによって得られる、基材。 前記基材、および前記基材を含む高温型電解セル(《HTE》)を調製するための方法。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
焼結によって結合された少なくとも1種の金属または金属合金の粒子を含む多孔質金属または金属合金から作成された基材を、酸化性ガスたとえば酸素および/または空気による部分酸化させて得られる部分的に酸化された基材であって、 前記基材が、第一の主表面および第二の主表面を有し、 前記基材が、前記第一の主表面から前記第二の主表面まで空孔率の勾配を有している部分的に酸化された基材。
IPC (7件):
B22F 5/10 ,  H01M 8/02 ,  B22F 3/11 ,  B22F 7/06 ,  B22F 3/24 ,  C23C 8/12 ,  B22F 5/00
FI (7件):
B22F5/10 ,  H01M8/02 Z ,  B22F3/11 A ,  B22F7/06 A ,  B22F3/24 H ,  C23C8/12 ,  B22F5/00 K
Fターム (25件):
4K018AA07 ,  4K018AA10 ,  4K018AA24 ,  4K018CA02 ,  4K018CA11 ,  4K018DA21 ,  4K018FA14 ,  4K018FA27 ,  4K018JA03 ,  4K018KA22 ,  4K018KA38 ,  5H026AA06 ,  5H026BB00 ,  5H026BB01 ,  5H026BB02 ,  5H026BB10 ,  5H026CC10 ,  5H026EE02 ,  5H026EE08 ,  5H026HH01 ,  5H026HH03 ,  5H026HH04 ,  5H026HH08 ,  5H026HH09 ,  5H026HH10
引用特許:
審査官引用 (7件)
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