特許
J-GLOBAL ID：201203028151598571
トリブロモシランの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
廣田 雅紀
, 小澤 誠次
, 東海 裕作
, 大▲高▼ とし子
, ▲高▼津 一也
, 堀内 真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-027034
公開番号（公開出願番号）：特開2012-166965
出願日： 2011年02月10日
公開日（公表日）： 2012年09月06日
要約：
【課題】多結晶シリコンの製造原料であるトリブロモシランを高い選択率及び/又は高い収率で得ることができる製造方法を提供すること。【解決手段】金属グレードシリコン及び臭化水素を380〜450°C、好ましくは380〜430°Cで反応させ、蒸留により分離回収するトリブロモシランの製造方法である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
シリコン及び臭化水素を380〜450°Cで反応させることを特徴とするトリブロモシランの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (10件)：
4G072AA15
, 4G072HH01
, 4G072JJ04
, 4G072JJ13
, 4G072MM01
, 4G072NN01
, 4G072RR07
, 4G072RR11
, 4G072RR21
, 4G072UU30
