特許
J-GLOBAL ID:201203028338932890

よう素・ほう素含有液の処理装置およびよう素・ほう素含有液の処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-156337
公開番号(公開出願番号):特開2012-016673
出願日: 2010年07月09日
公開日(公表日): 2012年01月26日
要約:
【課題】よう素およびほう素を含有する溶液からよう素とほう素を効率的に除去することが可能なよう素・ほう素含有液の処理装置を提供する。【解決手段】よう素およびほう素を含有するよう素・ほう素含有液について陽イオン交換樹脂により処理するための陽イオン交換樹脂処理手段と、陽イオン交換樹脂により処理された陽イオン交換樹脂処理液について弱塩基性陰イオン交換樹脂により処理するための弱塩基性陰イオン交換樹脂処理手段と、弱塩基性陰イオン交換樹脂により処理された弱塩基性陰イオン交換樹脂処理液について強塩基性陰イオン交換樹脂により処理するための強塩基性陰イオン交換樹脂処理手段と、を有するよう素・ほう素含有液の処理装置である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
よう素およびほう素を含有するよう素・ほう素含有液について陽イオン交換樹脂により処理するための陽イオン交換樹脂処理手段と、 前記陽イオン交換樹脂により処理された陽イオン交換樹脂処理液について弱塩基性陰イオン交換樹脂により処理するための弱塩基性陰イオン交換樹脂処理手段と、 前記弱塩基性陰イオン交換樹脂により処理された弱塩基性陰イオン交換樹脂処理液について強塩基性陰イオン交換樹脂により処理するための強塩基性陰イオン交換樹脂処理手段と、 を有することを特徴とするよう素・ほう素含有液の処理装置。
IPC (2件):
C02F 1/42 ,  B01J 49/00
FI (4件):
C02F1/42 E ,  C02F1/42 A ,  C02F1/42 B ,  B01J49/00 G
Fターム (11件):
4D025AA09 ,  4D025AB06 ,  4D025AB33 ,  4D025BA08 ,  4D025BA14 ,  4D025BA15 ,  4D025BA22 ,  4D025BB02 ,  4D025BB09 ,  4D025BB18 ,  4D025CA04
引用特許:
審査官引用 (3件)

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