特許
J-GLOBAL ID:201203032300304761

ナトリウムシリサイドおよびナトリウムシリカゲル物質を使用する水素生成システムおよび方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-503628
公開番号(公開出願番号):特表2012-522716
出願日: 2010年03月30日
公開日(公表日): 2012年09月27日
要約:
システム、デバイス、および方法は、反応物質と水溶液とを組み合わせて水素を生成する。反応物質は、ナトリウムシリサイドまたはナトリウムシリカゲルであることができる。水素生成デバイスは、燃料電池、および他の工業用用途において使用される。1つのシステムは、冷却、ポンプ、貯水、および他のデバイスを組み合わせて、反応物質と水溶液との間の反応を感知および制御して、水素を生成する。異なった定置配列の複数の入口が、水溶液を反応物に送達する。反応物質および水溶液を攪拌して、反応状態を制御する。水溶液を再生し、反応物に戻すことができる。1つのシステムは、一連の温度および圧力にわたって動作し、水素分離器、熱除去機構、および反応状態制御デバイスを含む。水素を生成するシステム、デバイス、および方法は、熱的に安定な固体、水溶液とのほぼ瞬間的な反応、および非毒性液体副生成物を提供する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
水素ガスを生成するためのシステムであって、 溶液入口ポートおよび水素出口ポートを含む反応器と、 前記反応器に添加される反応燃料物質と、 前記水素出口ポートを介して工業用用途に送られる水素ガスを生成するように、前記溶液入口充填ポートを介して前記反応器内の前記反応燃料物質に添加される水溶液と、 を備える、システム。
IPC (4件):
C01B 3/06 ,  C01B 3/56 ,  C01B 3/50 ,  H01M 8/06
FI (4件):
C01B3/06 ,  C01B3/56 Z ,  C01B3/50 ,  H01M8/06 R
Fターム (11件):
4G140FA02 ,  4G140FB02 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FC08 ,  4G140FE01 ,  5H026AA06 ,  5H027AA06 ,  5H027BA13 ,  5H027BA14 ,  5H027BA16
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る