特許

J-GLOBAL ID：201203033395440175

フォーカスリング及び該フォーカスリングを備える基板処理装置

発明者： 山涌 純 ,  輿水 地塩
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 別役 重尚 ,  村松 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-002250
公開番号（公開出願番号）：特開2012-146742
出願日： 2011年01月07日
公開日（公表日）： 2012年08月02日
要約：

【課題】プラズマエッチング装置の温度差の大きい2つのフォーカスリングの隙間において低温の部品に堆積物が付着するのを防止する。【解決手段】プラズマエッチング装置の処理室15内に配置されたウエハWの周縁を囲む内側フォーカスリング25a及び外側フォーカスリング25bからフォーカスリング25を構成し、内側フォーカスリング25aはウエハWに隣接して配置され且つ冷却され、外側フォーカスリング25bは内側フォーカスリング25aを囲み且つ冷却されず、更に、ブロック部材25cが、内側フォーカスリング25a及び外側フォーカスリング25bの間に配される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板処理装置の処理室内に配置された基板の周縁を囲むフォーカスリングであって、 前記基板に隣接して配置され且つ冷却される内側フォーカスリングと、 該内側フォーカスリングを囲み且つ冷却されない外側フォーカスリングと、 前記内側フォーカスリング及び前記外側フォーカスリングの隙間に配された石英部材とを有することを特徴とするフォーカスリング。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/304

FI (5件)：

H01L21/302 101H ,  H01L21/302 101B ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/302 101R ,  H01L21/304 645Z

Fターム (27件)：

5F004AA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA09 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB25 ,  5F004BC08 ,  5F004CA09 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA03 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F157AA72 ,  5F157AC01 ,  5F157BG32 ,  5F157BG72 ,  5F157BG73 ,  5F157BH15 ,  5F157BH19 ,  5F157CC11 ,  5F157CF46 ,  5F157CF62 ,  5F157DB47

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-064053   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマ処理用環状部品、プラズマ処理装置、及び外側環状部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-064427   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 静電吸着電極装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-177072   出願人：松下電子工業株式会社
• プラズマ処理装置及びプラズマ分布の制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-006000   出願人：東京エレクトロン株式会社