特許

J-GLOBAL ID：201203034836012405

プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器

発明者： 実松 渉 ,  斎藤 亮彦 ,  町 昌治
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (2件)： 三好 秀和 ,  伊藤 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-024926
公開番号（公開出願番号）：特開2012-164556
出願日： 2011年02月08日
公開日（公表日）： 2012年08月30日
要約：

【課題】より長時間ラジカルを液体中に存在させることのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器を得る。【解決手段】プラズマ発生装置1は、気体収容部5に配設された第1電極12と、少なくとも第1電極12と対になる側の部分が液体収容部4中の液体17と接触するように配設した第2電極13と、気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材19と、を備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水を含む液体を収容する液体収容部と、 気体を収容する気体収容部と、 前記気体収容部中の気体を前記液体収容部へ導く気体通路が形成され、前記液体収容部と前記気体収容部とを隔てる隔壁部と、 前記気体収容部に配設された第1電極と、 前記第1電極と距離を隔てられ、少なくとも前記第1電極と対になる側の部分が前記液体収容部中の液体と接触するように配設された第2電極と、 前記気体収容部の気体を前記気体通路を介して前記液体収容部へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を前記気体収容部に供給する気体供給部と、 前記第1電極と前記第2電極との間に所定の電圧を印加して前記第1電極と前記第2電極との間に放電を発生させることにより、前記気体収容部に導入された気体をプラズマ化するプラズマ電源部と、 気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材と、 を備えることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (6件)：

H05H 1/24 ,  B01J 19/08 ,  C02F 1/48 ,  C02F 1/78 ,  C02F 1/70 ,  B08B 3/08

FI (6件)：

H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  C02F1/48 B ,  C02F1/78 ,  C02F1/70 Z ,  B08B3/08 Z

Fターム (43件)：

3B201AA47 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB89 ,  3B201BB92 ,  3B201BC01 ,  4D050AA02 ,  4D050AA10 ,  4D050AA15 ,  4D050AB11 ,  4D050BA01 ,  4D050BA02 ,  4D050BB20 ,  4D050BD02 ,  4D050BD04 ,  4D050CA10 ,  4D061DA02 ,  4D061DA07 ,  4D061DA08 ,  4D061DB09 ,  4D061DB19 ,  4D061DC08 ,  4D061EA15 ,  4D061EB01 ,  4D061EB14 ,  4D061EB17 ,  4D061EB33 ,  4D061ED06 ,  4D061FA17 ,  4G075AA03 ,  4G075AA15 ,  4G075AA37 ,  4G075BA06 ,  4G075BA08 ,  4G075BD13 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075FA12 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FC15

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 水処理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-121996   出願人：株式会社東芝
• 廃液の処理方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-331398   出願人：太陽化学工業株式会社
• プラズマ発生装置、ラジカル生成方法および洗浄浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-330473   出願人：シャープ株式会社