特許
J-GLOBAL ID：200903056914619263

水処理システム

発明者：
飯島 崇文

飯島 崇文 について

, 
村田 隆昭

村田 隆昭 について

, 
久保 貴恵

久保 貴恵 について

, 
沖田 裕二

沖田 裕二 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-121996
公開番号（公開出願番号）：特開2005-296909
出願日： 2004年04月16日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】放電によるラジカル処理方法を使用する水処理システムにおいて、特に、水中に溶存する難分解性物質などの分解処理効率の向上を図ることが可能な水処理システムを提供することにある。【解決手段】水槽1内の処理対象水2をラジカル処理方式により処理する水処理システムにおいて、ラジカル処理用ガス70を流入して処理対象水2に噴出するガス流路41と、当該ガス70からラジカルを生成するための放電を発生するための放電部40とを有する放電用電極を備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
水槽内の処理対象水をラジカル処理方式により処理する水処理システムにおいて、 ラジカル処理用ガスを供給する手段と、 放電用高電圧を発生する電源と、 前記水槽内に配置されて、前記ラジカル処理用ガスを流入して前記処理対象水に噴出させるためのガス流路と、当該ガス流路において前記ラジカル処理用ガスが噴出する近傍で前記放電用高電圧に応じた放電を行なうための放電部とを有する放電用電極と を具備したことを特徴とする水処理システム。
IPC (2件)：
C02F1/72 ,  B01J19/08
FI (2件)：
C02F1/72 Z ,  B01J19/08 C
Fターム (23件)：
4D050AA12 ,  4D050AB11 ,  4D050AB16 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BB20 ,  4D050BD04 ,  4G075AA15 ,  4G075BA01 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BA08 ,  4G075BA10 ,  4G075BD27 ,  4G075CA18 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4G075EC01 ,  4G075EC10 ,  4G075EC21 ,  4G075FA01 ,  4G075FB06 ,  4G075FC15
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM